[实用新型]硅片单面刻蚀带液滚轮

说明书

本实用新型公开了一种硅片单面刻蚀带液滚轮，包括滚轮本体，所述滚轮本体上设有螺纹状凸起部，螺纹状凸起部用于接触硅片下表面带动其水平移动，所述螺纹状凸起部顶部开设沟槽，沟槽沿螺纹状凸起部的螺旋轨迹延伸。所述沟槽的宽度自外到内逐渐减小且为非连续的，沟槽中也可以储存液体，与硅片表面形成非连续液体膜与硅片进行反应，有效改善了刻蚀效果的同时；当设备发生小角度倾斜时，沟槽中仍然存储有液体，仍然可以与硅片进行反应。

技术领域

本实用新型涉及硅片加工技术领域，具体涉及一种刻蚀带液滚轮。

背景技术

传统的单面去PSG设备，在药液槽区间用来传输硅片的滚轮，只在表面做出齿状结构，由于齿表面是平正面，在传输过程中滚轮表面从槽内所携带的药液量不均匀，导致与硅片接触面渗透不均匀或者产生尾部翻液现象，影响硅片刻蚀效果。

实用新型内容

本实用新型要解决的技术问题是现有的滚轮带液不均匀影响硅片刻蚀效果。

为了解决上述技术问题，本实用新型采用的技术方案为：一种硅片单面刻蚀带液滚轮，包括滚轮本体，其特征在于：所述滚轮本体上设有螺纹状凸起部，螺纹状凸起部用于接触硅片下表面带动其水平移动，所述螺纹状凸起部中开设沟槽用于储存液体，沟槽沿螺纹状凸起部的螺旋轨迹延伸。

进一步的，所述沟槽的宽度自外到内逐渐减小。

进一步的，所述沟槽的宽度为0.1～0.3mm。

进一步的，所述螺纹状凸起部的间距为0.7～0.8mm；螺纹状凸起部外周面与经过滚轮本体轴心的平面的交线为直线，且与滚轮本体轴心的夹角为40～70°。

进一步的，在沟槽中还设置有多个锯齿状的分割块，分割块将沟槽分割成若干段。

从上述技术方案可以看出本实用新型具有以下优点：沟槽中也可以储存液体，与硅片表面形成非连续液体膜与硅片进行反应，有效改善了刻蚀效果的同时；当设备发生小角度倾斜时，沟槽中仍然存储有液体，仍然可以与硅片进行反应。

附图说明

图1为本实用新型的结构示意图。

图2为本实用新型中沟槽的内部结构示意图。

具体实施方式

以下结合附图对本实用新型的具体实施方式做具体说明。

如图1所示，本实用新型的一种硅片单面刻蚀带液滚轮，包括滚轮本体1，所述滚轮本体上设有螺纹状凸起部2，螺纹状凸起部2用于接触硅片下表面带动其水平移动，所述螺纹状凸起部2顶部开设沟槽3，沟槽3沿螺纹状凸起部的螺旋轨迹延伸。沟槽3的宽度自外到内逐渐减小。所述沟槽的最大宽度为0.2mm。在沟槽中还设置有多个锯齿状的分割块4，分割块4将沟槽分割成若干段，每一段可以单独储存药液。

所述螺纹状凸起部的间距为0.743mm；螺纹状凸起部外周面与经过滚轮本体轴心的平面的交线为直线，且与滚轮本体轴心的夹角为60°。沟槽中也可以储存液体，与硅片表面形成非连续液体膜与硅片进行反应，有效改善了刻蚀效果的同时；当设备发生小角度倾斜时，沟槽中仍然存储有液体，仍然可以与硅片进行反应，降低对设备自身水平度要求。