[实用新型]一种化学气相沉积设备

权利要求书

1.一种化学气相沉积设备，其特征在于，包括：

工艺腔室，包括：容纳空间和样品入口；

封闭装置，用于封闭或打开所述样品入口，所述封闭装置封闭所述样品入口时，所述封闭装置靠近所述容纳空间的表面与所述工艺腔室开设有所述样品入口的第一侧壁的内侧共面。

2.根据权利要求1所述的化学气相沉积设备，其特征在于，所述封闭装置包括：第一平板和第一滑轨，所述第一平板与所述第一滑轨滑动连接，所述第一滑轨的延伸方向与所述第一侧壁平行，所述第一平板平行于所述第一侧壁；

所述第一平板沿所述第一滑轨滑动至所述样品入口时，所述第一平板远离所述第一滑轨的一侧与所述第一侧壁的内侧共面。

3.根据权利要求2所述的化学气相沉积设备，其特征在于，所述工艺腔室的与所述第一侧壁相邻的第二侧壁设置有第一通孔，所述第一通孔的延伸方向平行于所述第一侧壁，所述第一滑轨从所述工艺腔室外穿进所述第一通孔，所述第一侧壁沿垂直于所述第二侧壁的方向的投影覆盖所述第一通孔；所述第一通孔靠近所述容纳空间的一侧与所述第一侧壁的内侧共面。

4.根据权利要求3所述的化学气相沉积设备，其特征在于，所述第一平板的平行于所述第一侧壁的截面大于或等于所述样品入口的平行于所述第一侧壁的截面。

5.根据权利要求1所述的化学气相沉积设备，其特征在于，所述封闭装置包括第二平板、第三平板、伸缩结构和第二滑轨，所述第二平板和所述第三平板相对，所述伸缩结构位于所述第二平板和所述第三平板之间，所述伸缩结构的两端分别与所述第二平板和所述第三平板连接，所述伸缩结构的伸缩方向平行于所述第一侧壁的厚度方向，所述第二滑轨的延伸方向与所述第一侧壁平行，所述第二平板平行于所述第一侧壁；

所述第三平板与所述第二滑轨滑动连接，所述第三平板沿所述第二滑轨滑动至所述样品入口时，所述伸缩结构拉伸，所述第二平板远离所述第二滑轨的一侧与所述第一侧壁的内侧共面。

6.根据权利要求5所述的化学气相沉积设备，其特征在于，所述第一侧壁设置有第二通孔，所述第二通孔的延伸方向平行于所述第一侧壁，所述第二滑轨从所述工艺腔室外穿进所述第二通孔，所述第二通孔与所述样品入口连通；所述第二通孔靠近所述容纳空间的一侧相对于所述第一侧壁的内侧远离所述容纳空间。

7.根据权利要求5所述的化学气相沉积设备，其特征在于，所述第二平板的平行于所述第一侧壁的截面与所述样品入口的平行于所述第一侧壁的截面相同，所述第三平板的平行于所述第一侧壁的截面大于所述样品入口的平行于所述第一侧壁的截面。

8.根据权利要求5所述的化学气相沉积设备，其特征在于，所述伸缩结构包括波纹管，所述波纹管位于所述第二平板和所述第三平板之间，所述波纹管的两端分别与所述第二平板和所述第三平板连接，以形成密封腔体；

所述封闭装置还包括充放流体结构，与所述密封腔体连通，用于向所述密封腔体充入流体或使所述密封腔体排出流体。

9.根据权利要求8所述的化学气相沉积设备，其特征在于，所述流体包括气体，所述充放流体结构包括气缸和空气干燥压缩机，所述空气干燥压缩机用于驱动所述气缸向所述密封腔体充气或使所述密封腔体排气。

10.根据权利要求1所述的化学气相沉积设备，其特征在于，所述化学气相沉积设备包括：等离子体增强型化学气相沉积设备。