[发明专利]一种晶圆清洗设备晶圆片高速装载方法有效

专利信息
申请号: 202011636157.5 申请日: 2020-12-31
公开(公告)号: CN112736002B 公开(公告)日: 2022-06-07
发明(设计)人: 陈新来;邓信甫;刘大威;陈丁堃 申请(专利权)人: 至微半导体(上海)有限公司
主分类号: H01L21/677 分类号: H01L21/677;H01L21/67
代理公司: 上海智力专利商标事务所(普通合伙) 31105 代理人: 孙金金;周涛
地址: 200241 上海市*** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 清洗 设备 晶圆片 高速 装载 方法
【说明书】:

发明公开了一种晶圆清洗设备晶圆片高速装载方法,步骤一、初始状态;第一水平放置板、第二水平放置板均处于水平状态,第一垂直放置板、第二垂直放置板处于垂直状态,第一晶圆盒内装载有晶圆片;步骤二、晶圆片转移;第一放置架、第二放置架同时转动九十度,滑动推手动作,由第一晶圆盒的底部镂空处将第一晶圆盒内的晶圆片推到第二晶圆盒内;步骤三、晶圆片侦测;第一放置架、第二放置架同时反向转动九十度,第一晶圆盒、第二晶圆盒的开口向上,检测气缸推动检测传感器同时向上运动,对第二晶圆盒内的晶圆片进行检测;步骤四、晶圆盒夹取。本发明能够实时对晶圆片进行侦测,保证了晶圆片的清洗效率,大幅提升了半导体湿法工艺设备的稼动率。

技术领域

本发明属于半导体生产设备技术领域,具体涉及一种晶圆清洗设备晶圆片高速装载方法。

背景技术

在半导体湿法工艺设备上,常常会因为有不同的使用需求设置有不同的配置,半导体工艺设备常根据配置的调整来调整晶圆负载吞吐量。在半导体工艺设备对应的晶圆输送的整体设备结构,在晶圆产品的入货区及下货区常需要配置高效率的晶圆传输结构,尤其是在半导体湿法工艺设备的入货区及下货区因晶圆产品通常为一至两个晶圆盒的配置,对于提升晶圆负载量的效果有限,故从晶圆传输的结构设计来驱使改善工艺的执行效率为一相当重要的话题。

发明内容

针对现有技术中存在的问题,本发明提供一种晶圆清洗设备晶圆片高速装载方法,本发明能够提升晶圆的传输效率,进而提升与加强批量晶圆的负载能力,大幅提升半导体湿法工艺设备的稼动率。

为实现上述目的,本发明采用以下技术方案:

本发明提供一种晶圆清洗设备晶圆片高速装载方法,采用特制的晶圆清洗设备晶圆片高速装载系统,包括输出机构及接收机构,所述输出机构与所述接收机构对称设置,

所述输出机构包括第一安装架、第一放置架、第一晶圆盒及滑动推手,所述第一放置架包括第一水平放置板与第一垂直放置板,所述第一水平放置板与所述第一垂直放置板相互垂直设置,所述第一水平放置板的中部设置有镂空结构,所述第一晶圆盒的底部设置有镂空结构,所述第一晶圆盒的底部放置于所述第一水平放置板上,所述第一晶圆盒底部的镂空结构与所述第一水平放置板上的镂空结构连通,所述第一晶圆盒的侧部与所述第一垂直固定板固定连接,所述第一水平放置板、所述第一垂直放置板的连接处与所述第一安装架轴连接,所述滑动推手包括滑动轨道及推臂,所述推臂可滑动地安装于所述滑动轨道上,所述推臂设置于所述第一放置架远离所述接收机构的一侧;

所述接收机构包括第二安装架、第二放置架、第二晶圆盒及晶圆检测器,所述第二放置架包括第二水平放置板与第二垂直放置板,所述第二水平放置板与所述第二垂直放置板相互垂直设置,所述第二水平放置板的中部设置有镂空结构,所述第二晶圆盒的底部设置有镂空结构,所述第二晶圆盒的底部放置于所述第二水平放置板上,所述第二晶圆盒的底部镂空结构与所述第二水平放置板上的镂空结构连通,所述第二晶圆盒的侧部与所述第二垂直固定板固定连接,所述第二水平放置板、所述第二垂直放置板的连接处与所述第二安装架轴连接,所述晶圆检测器包括检测气缸及检测传感器,所述检测传感器连接所述检测气缸的输出端,所述检测传感器位于所述第二水平放置板镂空结构的正下方;

所述第一放置架与所述第一安装架通过第一驱动机构连接,所述第二放置架与所述第二安装架通过第二驱动机构连接,所述第一驱动机构与所述第二驱动机构的结构相同;

所述晶圆清洗设备晶圆片高速装载方法包括以下步骤:

步骤一、初始状态;第一水平放置板、第二水平放置板均处于水平状态,第一垂直放置板、第二垂直放置板处于垂直状态,第一晶圆盒内装载有晶圆片,第二晶圆盒内为空载,滑动推手远离第一晶圆盒;

步骤二、晶圆片转移;第一放置架处的驱动机构与第二放置架处的驱动机构同时动作,带动第一放置架、第二放置架同时转动九十度,第一晶圆盒、第二晶圆盒的开口呈相对状态,滑动推手动作,由第一晶圆盒的底部镂空处将第一晶圆盒内的晶圆片推到第二晶圆盒内;

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于至微半导体(上海)有限公司,未经至微半导体(上海)有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202011636157.5/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top