[发明专利]一种三元气体混合浴的钙钛矿薄膜的制备方法在审
| 申请号: | 202011480148.1 | 申请日: | 2020-12-15 |
| 公开(公告)号: | CN112626489A | 公开(公告)日: | 2021-04-09 |
| 发明(设计)人: | 刘家梁;赵志国;秦校军;赵东明;肖平;董超;熊继光;王百月;刘娜 | 申请(专利权)人: | 中国华能集团清洁能源技术研究院有限公司 |
| 主分类号: | C23C16/30 | 分类号: | C23C16/30;C23C16/455;C23C14/20;C23C14/24;H01L51/42;H01L51/48;H01L51/00 |
| 代理公司: | 西安通大专利代理有限责任公司 61200 | 代理人: | 贺小停 |
| 地址: | 102209 北京市昌平区北七*** | 国省代码: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 三元 气体 混合 钙钛矿 薄膜 制备 方法 | ||
1.一种三元气体混合浴的钙钛矿薄膜的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:
利用气相三元气体混合浴法在基底上制备得到钙钛矿薄膜。
2.根据权利要求1所述的一种三元气体混合浴的钙钛矿薄膜的制备方法,其特征在于,利用气相三元气体混合浴法在基底上制备得到钙钛矿薄膜,具体方法是:
在温度为30-120℃、气源压力为0.05-0.3Pa的条件下,以氩气为稳定气源,通入MA蒸汽、HI蒸汽及I2蒸汽,在基底上制备得到钙钛矿薄膜,所得钙钛矿薄膜的厚度为300-600nm。
3.根据权利要求2所述的一种三元气体混合浴的钙钛矿薄膜的制备方法,其特征在于,MA蒸汽、HI蒸汽及I2蒸汽摩尔比为(0.8-1.2):(0.8-1.2):(0.8-1.4)。
4.根据权利要求1所述的一种三元气体混合浴的钙钛矿薄膜的制备方法,其特征在于,利用气相三元气体混合浴法在基底上制备得到钙钛矿薄膜,具体方法是:
在温度为70℃、气源压力为0.08Pa的条件下,以氩气为稳定气源,通入MA蒸汽、HI蒸汽及I2蒸汽,在基底上制备得到钙钛矿薄膜,所得钙钛矿薄膜的厚度为300-600nm。
5.根据权利要求1所述的一种三元气体混合浴的钙钛矿薄膜的制备方法,其特征在于,MA蒸汽、HI蒸汽及I2蒸汽摩尔比为1:1:1.2。
6.根据权利要求1所述的一种三元气体混合浴的钙钛矿薄膜的制备方法,其特征在于,所述基底和钙钛矿薄膜之间设置有铅膜。
7.一种三元气体混合浴的太阳能电池的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:
步骤1,在导电电极基底上制备得到空穴传输层;
步骤2,在得到的空穴传输层上利用气相三元气体混合浴法制备钙钛矿吸光层;
步骤3,在得到的钙钛矿吸光层上制备电子传输层;
步骤4,在得到的电子传输层上制备金属对电极层,得到基于三元气体混合浴的钙钛矿薄膜。
8.根据权利要求7所述的一种三元气体混合浴的钙钛矿薄膜的制备方法,其特征在于,步骤1中,利用刮刀涂布法在导电电极基底上制备空穴传输层。
9.根据权利要求7所述的一种三元气体混合浴的钙钛矿薄膜的制备方法,其特征在于,步骤2中,在得到的空穴传输层上制备钙钛矿吸光层,具体方法是:
在空穴传输层上制备铅膜,之后在温度为30-120℃、气源压力为0.05-0.3Pa的条件下,以氩气为稳定气源,通入MA蒸汽、HI蒸汽及I2蒸汽,在铅膜上制备得到钙钛矿吸光层。
10.根据权利要求9所述的一种三元气体混合浴的钙钛矿薄膜的制备方法,其特征在于,所述MA、HI及I2的摩尔比为(0.8-1.2):(0.8-1.2):(0.8-1.4)。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的





