[发明专利]一种利用光敏垫特性制作印章斗的方法有效

专利信息
申请号: 202011422852.1 申请日: 2020-12-08
公开(公告)号: CN112549739B 公开(公告)日: 2022-06-03
发明(设计)人: 梁永健 申请(专利权)人: 宝鼎文化用品(深圳)有限公司
主分类号: B41C1/14 分类号: B41C1/14;G03F7/20
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 518000 广东省深圳市平湖街道平*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 利用 光敏 特性 制作 印章 方法
【权利要求书】:

1.一种利用光敏垫特性制作印章斗的方法,其特征在于,第一工序,在该第一工序中,模具生成带注油孔的印章斗框体;第二工序,在该第二工序中,将由微孔聚乙烯材料构成的光敏垫密闭地熔合在印章斗框体的底面上,所述光敏垫密闭地熔合在印章斗框体的底面上的熔合温度为80°~200°之间,得到带光敏垫的印章斗框体,整体高度为4.5mm-6.5mm之间;第三工序,在该第三工序中,将所述带光敏垫的印章斗框体放置在曝光机器的承载台上,使所述光敏垫与所述承载台的表面接触,对光敏垫进行曝光;第四工序,在该第四工序中,取出带光敏垫的印章斗框体,对印章斗框体的注油孔进行注印油。

2.如权利要求1所述的利用光敏垫特性制作印章斗的方法,其特征在于,在所述第二工序中,制作得到的带光敏垫的印章斗框体的整体高度为5.5mm。

3.如权利要求1至2中任一项所述的利用光敏垫特性制作印章斗的方法,其特征在于,印章斗框体为光敏材料,在熔合的过程中,印章斗框体与光敏垫通过加热一体成型。

4.如权利要求3所述的利用光敏垫特性制作印章斗的方法,其特征在于,所述光敏垫受到曝光机器瞬间发出的强光辐射产生光氧化反应,形成各种预设印面。

5.如权利要求4中所述的利用光敏垫特性制作印章斗的方法,其特征在于,所述带光敏垫的印章斗框体受到曝光机器瞬间发出的强光辐射产生光氧化反应,熔合处生成保护材质,防止印油泄漏。

6.如权利要求5中所述的利用光敏垫特性制作印章斗的方法,其特征在于,在所述第二工序中,在所述承载台的表面设有摩擦力辅助部。

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