[发明专利]一种高端制造用半导体基板抛光液补偿装置

说明书

本发明涉及半导体器件制造技术领域，且公开了一种高端制造用半导体基板抛光液补偿装置，包括抛光座，所述抛光座的顶部转动连接有修整盘，所述修整盘的上方设有上支撑座，所述上支撑座的内部固定连接有活动架，所述活动架的内部固定连接有柔性管，所述柔性管的一侧固定连接有弹簧杆，所述柔性管的另一侧固定连接有弹簧片。当抛光液补充完成后，漂浮板在浮力的作用下，向上移动，使检测头内的体积减少，使液压油被挤压入外套管的内部，使液压油推动滑动座一内的推杆一向内侧移动，使推杆一带动挡板堵住进液管的顶端，使该装置可以及时根据抛光液的损耗，自动进行补充和关闭，节省人力的同时，还有效避免了浪费。

技术领域

本发明涉及半导体器件制造技术领域，具体为一种高端制造用半导体基板抛光液补偿装置。

背景技术

目前，用于平坦化集成电路层的制造制程是化学机械抛光。化学机械抛光制程将化学去除与机械抛光相结合。化学机械抛光制程对晶圆抛光以及从晶圆上去除材料，并可用于平坦化多材料表面，在进行抛光的过程中，需要加入抛光液对抛光面进行缓和。

现有技术中，半导体基板在抛光的过程中，由于底部的抛光座不断的进行旋转，使抛光座内的抛光液会被甩出，导致抛光座内的抛光液需要人工进行补偿，而人工不能及时观察到是否需要进行补偿，和需要补偿多少，且在进行抛光时，由于摩擦力，抛光液的温度会随着抛光时间的增加而升高，若抛光温度过高，则会造成半导体基板生产的良品率低下。

发明内容

(一)解决的技术问题

针对现有技术的不足，本发明提供了一种高端制造用半导体基板抛光液补偿装置，具备自动进行补偿抛光液和自动对抛光液进行降温的优点，解决了半导体基板在抛光的过程中，由于底部的抛光座不断的进行旋转，使抛光座内的抛光液会被甩出，导致抛光座内的抛光液需要人工进行补偿，而人工不能及时观察到是否需要进行补偿，和需要补偿多少，且在进行抛光时，由于摩擦力，抛光液的温度会随着抛光时间的增加而升高，若抛光温度过高，则会造成半导体基板生产的良品率低下的问题。

(二)技术方案

为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：一种高端制造用半导体基板抛光液补偿装置，包括抛光座，所述抛光座的顶部转动连接有修整盘，所述修整盘的上方设有上支撑座，所述上支撑座的内部固定连接有活动架，所述活动架的内部固定连接有柔性管，所述柔性管的一侧固定连接有弹簧杆，所述柔性管的另一侧固定连接有弹簧片，所述活动架的底部固定连接有进液端，所述进液端的底部固定连接有进液管，所述进液管的顶部活动连接有挡板；

所述修整盘与所述上支撑座的连接处固定连接有外套管，所述外套管的内侧壁固定连接有内管体，所述内管体的底部固定连接有吸热头，所述外套管的外侧壁固定连接有滑动座一，所述滑动座一的内侧壁滑动连接有推杆一，所述内管体的外侧壁固定连接有滑动座二，所述滑动座二的内侧壁滑动连接有推杆二，所述外套管的底端固定连接有检测头，所述检测头的内侧壁铰接有漂浮板。

优选的，所述抛光座的内部活动连接有抛光盘，所述抛光盘的上下两面均固定连接有半导体基板，抛光座带动内部的抛光盘旋转，使抛光盘上下两侧的半导体基板被同时打磨。

优选的，所述上支撑座的顶部固定连接有抛光液储存箱，所述抛光液储存箱的内部固定连接有冷却管，冷却管与外界冷源连接，使冷却管对抛光液储存箱内的抛光液进行冷却。

优选的，所述柔性管的顶部通过管道与所述抛光液储存箱连通，所述柔性管的底部通过管道与所述进液管连通，柔性管具有柔性，使其可以被挤压变形。

优选的，所述外套管的内部填充有液压油，所述内管体的内部填充有水银，液压油在外套管内移动，水银在内管体内移动。

优选的，所述推杆一的一端与所述挡板的一侧固定连接，所述推杆二的一端与所述活动架的外侧壁固定连接，推杆一带动挡板横向移动，推杆二带动活动架横向移动。