[发明专利]一种化学气相沉积法制备薄膜装置

权利要求书

1.一种化学气相沉积法制备薄膜装置，包括壳体(1)，其特征在于：所述壳体(1)的内底壁固定连接有第一弹簧(3)，所述第一弹簧(3)的另一端固定连接有载物台(4)，所述载物台(4)上设有基体本体(5)，所述第一弹簧(3)的左右两侧且位于壳体(1)的内底壁均固定连接有两个套筒(2)，两个所述套筒(2)的内部固定连接有第二弹簧(6)，所述第二弹簧(6)的下端固定连接在壳体(1)的内底壁上，所述第二弹簧(6)的另一端固定连接有第一磁铁(7)，所述载物台(4)的下端左右两侧表面开设有两个通道(41)，两个所述通道(41)内部滑动连接有限位块(9)，两个所述限位块(9)的下端均固定连接有第二磁铁(8)，两个所述第二磁铁(8)延伸至套筒(2)的内部，两个所述第二磁铁(8)的下端通过套筒(2)贯穿连接有限位杆(10)，所述限位杆(10)的另一端延伸至壳体(1)的外部，所述壳体(1)左右两侧侧壁的上端贯穿连接有两个进气口(11)，所述载物台(4)的上端表面且位于基体本体(5)的两侧开设有两个通孔(13)，所述通道(41)的左侧且位于载物台(4)的内部开设有排气管道(12)，所述排气管道(12)的另一端通过壳体(1)的底部侧壁延伸至壳体(1)的外侧，所述载物台(4)的左右两侧下端侧壁设有两个密封块(14)，所述壳体(1)的底壁外侧固定连接有真空泵(15)。

2.根据权利要求1所述的一种化学气相沉积法制备薄膜装置，其特征在于：所述第二磁铁(8)的宽度值小于套筒(2)的宽度值，且所述第二磁铁(8)的斜面一侧宽度值等于限位杆(10)右侧的斜面处宽度值。

3.根据权利要求1所述的一种化学气相沉积法制备薄膜装置，其特征在于：所述排气管道(12)的宽度值小于真空泵(15)两侧的套筒的宽度值。

4.根据权利要求1所述的一种化学气相沉积法制备薄膜装置，其特征在于：所述通道(41)的宽度值等于限位块(9)的宽度值。

5.根据权利要求1所述的一种化学气相沉积法制备薄膜装置，其特征在于：所述密封块(14)设置为耐磨光滑材质。