[发明专利]一种具有复合漏极结构的氮化物功率器件及其制作方法在审
申请号: | 202011180879.4 | 申请日: | 2020-10-29 |
公开(公告)号: | CN112531020A | 公开(公告)日: | 2021-03-19 |
发明(设计)人: | 徐宁;林科闯;刘成;林育赐;赵杰;何俊蕾;叶念慈 | 申请(专利权)人: | 厦门市三安集成电路有限公司 |
主分类号: | H01L29/20 | 分类号: | H01L29/20;H01L29/417;H01L29/45;H01L29/06;H01L21/335;H01L29/778 |
代理公司: | 厦门市首创君合专利事务所有限公司 35204 | 代理人: | 张松亭;陈淑娴 |
地址: | 361000 福建省厦门*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 具有 复合 结构 氮化物 功率 器件 及其 制作方法 | ||
1.一种具有复合漏极结构的氮化物功率器件,其特征在于:包括GaN沟道层、AlGaN势垒层、源极金属、漏极金属和栅极金属,沟道层和势垒层构成异质结,源极金属、漏极金属和栅极金属设于势垒层之上;还包括若干p型氮化物结构,所述若干p型氮化物结构设于所述漏极金属和势垒层之间且分立间隔排布,所述漏极金属与所述p型氮化物结构形成欧姆接触。
2.根据权利要求1所述的具有复合漏极结构的氮化物功率器件,其特征在于:所述若干p型氮化物结构为条形结构,沿栅长方向排布,且于栅宽方向的长度小于或等于所述漏极金属。
3.根据权利要求1所述的具有复合漏极结构的氮化物功率器件,其特征在于:所述若干p型氮化物结构为条形结构,沿栅宽方向排布,且于栅长方向的长度小于或等于所述漏极金属。
4.根据权利要求1所述的具有复合漏极结构的氮化物功率器件,其特征在于:所述若干p型氮化物结构为块状结构,且等距离间隔排布。
5.根据权利要求1所述的具有复合漏极结构的氮化物功率器件,其特征在于:所述p型氮化物结构的掺杂浓度为1×1017-1×1021cm-3。
6.根据权利要求1所述的具有复合漏极结构的氮化物功率器件,其特征在于:所述若干p型氮化物结构的面积占所述漏极金属面积的0.2-0.8。
7.根据权利要求1所述的具有复合漏极结构的氮化物功率器件,其特征在于:所述p型氮化物结构的材料为p-GaN、p-AlGaN、p-InGaN或p-InAlGaN。
8.根据权利要求1所述的具有复合漏极结构的氮化物功率器件,其特征在于:所述漏极金属的材料包括Ni、Pd、Au和至少包括Ni、Pd、Au之一的合金及化合物。
9.根据权利要求1所述的具有复合漏极结构的氮化物功率器件,其特征在于:还包括设于所述栅极金属和势垒层之间的p型氮化物层,所述p型氮化物层与所述p型氮化物结构同层设置。
10.一种权利要求1~9任一项所述的具有复合漏极结构的氮化物功率器件的制作方法,其特征在于包括以下步骤:
1)提供包括沟道层和势垒层的外延结构,于势垒层上定义漏极区域,于漏极区域内形成若干分立间隔排布的p型氮化物结构;
2)于漏极区域沉积覆盖所述p型氮化物结构的漏极金属,并制备栅极金属。
11.根据权利要求10所述的制作方法,其特征在于:步骤1)中,于势垒层上形成p型氮化物外延层,蚀刻所述p型氮化物外延层形成所述p型氮化物结构;或,通过选区外延工艺于所述漏极区域的部分区域形成所述p型氮化物结构。
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