[发明专利]半导体存储器装置及其操作方法在审

专利信息
申请号: 202011124110.0 申请日: 2020-10-20
公开(公告)号: CN113299331A 公开(公告)日: 2021-08-24
发明(设计)人: 金宗佑;卢由钟 申请(专利权)人: 爱思开海力士有限公司
主分类号: G11C16/10 分类号: G11C16/10
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人: 刘久亮;黄纶伟
地址: 韩国*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 半导体 存储器 装置 及其 操作方法
【权利要求书】:

1.一种半导体存储器装置,该半导体存储器装置包括:

存储器单元阵列,该存储器单元阵列包括多个存储块;

外围电路,该外围电路被配置为对所述存储器单元阵列执行编程操作;以及

控制逻辑,该控制逻辑被配置为控制由所述外围电路执行的所述编程操作,

其中,所述多个存储块中的每一个存储块联接到与该存储块对应的漏极选择线、多条字线以及第一源极选择线和第二源极选择线,并且

其中,在对所述多个存储块当中的被选为编程目标的第一存储块执行的编程操作期间,所述控制逻辑控制所述外围电路以使得所述多个存储块当中的未被选为编程目标的第二存储块的第一源极选择线浮置。

2.根据权利要求1所述的半导体存储器装置,其中,

所述编程操作包括多个编程循环,各个编程循环包括预充电阶段、编程阶段和验证阶段,

所述第一存储块和所述第二存储块联接到公共源极线,

所述第一源极选择线被设置为比所述第二源极选择线更靠近所述公共源极线,并且

在所述预充电阶段中,所述控制逻辑控制所述外围电路以使得与所述第二存储块联接的所述第一源极选择线浮置并且接地电压被施加到与所述第二存储块联接的第二源极选择线。

3.根据权利要求2所述的半导体存储器装置,其中,在所述预充电阶段中,所述控制逻辑控制所述外围电路以使得所述接地电压被施加到与所述第二存储块联接的漏极选择线。

4.根据权利要求3所述的半导体存储器装置,其中,在所述预充电阶段中,所述控制逻辑控制所述外围电路以使得在与所述第二存储块联接的所述第一源极选择线浮置的状态下,预充电电压被施加到所述公共源极线。

5.根据权利要求2所述的半导体存储器装置,其中,所述外围电路包括:

第一选择线控制开关,该第一选择线控制开关被配置为将所述第一存储块的第一源极选择线选择性地联接到第一选择接地线并且将所述第一存储块的第二源极选择线和漏极选择线选择性地联接到第二选择接地线;以及

第二选择线控制开关,该第二选择线控制开关被配置为将所述第二存储块的所述第一源极选择线选择性地联接到所述第一选择接地线并且将所述第二存储块的所述第二源极选择线和漏极选择线选择性地联接到所述第二选择接地线。

6.根据权利要求5所述的半导体存储器装置,其中,

在对所述第一存储块执行的所述编程操作期间,所述第一选择线控制开关被停用,并且

在对所述第一存储块执行的所述编程操作期间,所述第二选择线控制开关被启用,然后被配置为将所述第二存储块的所述第一源极选择线电联接到所述第一选择接地线并且将所述第二存储块的所述第二源极选择线和所述漏极选择线电联接到所述第二选择接地线。

7.根据权利要求6所述的半导体存储器装置,其中,在对所述第一存储块执行的所述编程操作期间的所述预充电阶段中,所述第一选择接地线浮置。

8.根据权利要求6所述的半导体存储器装置,其中,在对所述第一存储块执行的所述编程操作期间的所述预充电阶段中,所述接地电压被施加到所述第二选择接地线。

9.根据权利要求1所述的半导体存储器装置,其中,所述多个存储块中的每一个还联接到第三源极选择线,并且所述第三源极选择线被插置在所述第一源极选择线和所述第二源极选择线之间。

10.根据权利要求9所述的半导体存储器装置,其中,在对所述多个存储块当中的被选为编程目标的所述第一存储块执行的所述编程操作期间,所述控制逻辑控制所述外围电路以使得所述多个存储块当中的未被选为编程目标的所述第二存储块的第三源极选择线浮置。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于爱思开海力士有限公司,未经爱思开海力士有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202011124110.0/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top