[发明专利]一种电阻触摸屏及其制作方法

说明书

本发明涉及一种电阻触摸屏及其制作方法，电阻触摸屏包括ITO导电基材，所述ITO导电基材上印刷有银浆线路，在印刷有银浆线路的ITO导电基材上通过激光镭射对没有被银浆线路遮挡的ITO进行图形化形成电路，所述电路包括绑定区、功能DUMMY区和无功能DUMMY区；激光镭射ITO形成镭射线，所述绑定区和所述无功能DUMMY区通过激光镭射形成有ITO块，且所述绑定区中激光镭射线的密度大于所述无功能DUMMY区中激光镭射线的密度。本发明采用镭射激光对ITO进行图形化，具有加工简单，不产生大量废水、污水的优点，同时通过创新设计结构，使激光的走线既能提高效率，避免镭射痕迹，又能更好保障功能效果，不易于短路，提升产品的可靠性，稳定性，经济性。

技术领域

本发明涉及触摸屏领域，具体涉及一种电阻触摸屏及其制作方法。

背景技术

触摸屏技术应用在一些工业和商业设备中，例如POS终端机等。触摸屏技术在很大程度上方便了人机交互，触摸屏本身又很坚固耐用,这些特点都让触摸屏技术有了很大的应用和发展。利用触摸屏技术，用户只要用手指点击相应的触控图案，就可以解决过去繁杂的操作问题，极大的方便了用户。电阻屏的上下层线路主要采用透明的ITO(铟锡氧化物)材料，制作触摸屏时需要对ITO进行图形化，目前常用的图形化工艺是采用药液蚀刻的方法，药液蚀刻主要是酸性药性将ITO腐蚀，再清洗形成线路，制作过程会会产生较多的污水需要处理，同时也要用到大量清水清洗清洗，不经济，不环保。另一个图形化的方法为激光镭射ITO，但现有镭射时需要将大量的ITO镭射去掉，如果激光线密集走线，会严重影响镭射效率，不经济，也会产生镭射痕迹影响产品外观，如不密集走线容易产生产品短路问题，使产品有较大的质量风险和良率的损失。

发明内容

本发明所要解决的技术问题是提供一种电阻触摸屏及其制作方法，不使用酸性药液对ITO进行图形化，具有加工简单，不产生大量废水、污水的，采用创新的ITO图形，使产品稳定、经济、环保。

本发明解决上述技术问题的技术方案如下：一种电阻触摸屏，包括ITO导电基材，所述ITO导电基材上印刷有银浆线路，在印刷有银浆线路的ITO导电基材上通过激光镭射对没有被银浆线路遮挡的ITO进行图形化形成电路，所述电路包括绑定区、功能DUMMY区和无功能DUMMY区；激光镭射ITO形成镭射线，所述绑定区和所述无功能DUMMY区通过激光镭射形成有ITO块，且所述绑定区中激光镭射线的密度大于所述无功能DUMMY区中激光镭射线的密度。

本发明的有益效果是：本发明采用镭射激光对ITO进行图形化，具有加工简单，不产生大量废水、污水的优点，同时通过创新设计结构，使激光的走线既能提高效率，避免镭射痕迹，又能更好保障功能效果，不易于短路，提升产品的可靠性，稳定性，经济性。

在上述技术方案的基础上，本发明还可以做如下改进。

进一步，激光镭射形成电路时的镭射宽度范围为15～50um。

进一步，所述功能DUMMY区中设有隔开位置，所述隔开位置通过激光镭射形成有隔离线路，形成隔离线路时激光镭射的次数范围为2～5次，且每次激光镭射时的镭射宽度范围为10～40um。

采用上述进一步方案的有益效果是：在功能DUMMY区需要镭射隔开的位置，需要镭射2～5次，每次的间距为10～40um，以确保ITO被镭开而大大降低短路风险。

进一步，靠近所述银浆线路的镭射线与银浆线路之间的距离大于30um，且大于一倍光斑。

进一步，在所述无功能DUMMY区中，通过激光横竖镭射形成有多个ITO块，所述无功能DUMMY区中的每个所述ITO块的宽度范围均为0.2～3mm。

采用上述进一步方案的有益效果是：通过激光横竖镭射形成有多个ITO块，避免绑定的各向异性导电胶中导电粒子短路。