[发明专利]一种电阻触摸屏及其制作方法

权利要求书

1.一种电阻触摸屏，其特征在于：包括ITO导电基材，所述ITO导电基材上印刷有银浆线路，在印刷有银浆线路的ITO导电基材上通过激光镭射对没有被银浆线路遮挡的ITO进行图形化形成电路，所述电路包括绑定区、功能DUMMY区和无功能DUMMY区；激光镭射ITO形成镭射线，所述绑定区和所述无功能DUMMY区通过激光镭射形成有ITO块，且所述绑定区中激光镭射线的密度大于所述无功能DUMMY区中激光镭射线的密度。

2.根据权利要求1所述的电阻触摸屏，其特征在于：激光镭射形成电路时的镭射宽度范围为15～50um。

3.根据权利要求1所述的电阻触摸屏，其特征在于：所述功能DUMMY区中设有隔开位置，所述隔开位置通过激光镭射形成有隔离线路，形成隔离线路时激光镭射的次数范围为2～5次，且每次激光镭射时的镭射宽度范围为10～40um。

4.根据权利要求1至3任一项所述的电阻触摸屏，其特征在于：靠近所述银浆线路的镭射线与银浆线路之间的距离大于30um，且大于一倍光斑。

5.根据权利要求1至3任一项所述的电阻触摸屏，其特征在于：在所述无功能DUMMY区中，通过激光横竖镭射形成有多个ITO块，所述无功能DUMMY区中的每个所述ITO块的宽度范围均为0.2～3mm。

6.根据权利要求1至3任一项所述的电阻触摸屏，其特征在于：所述银浆线路上设有引线端子，所述引线端子位于所述绑定区中，在所述绑定区中且位于非引线端子的位置上，通过激光横竖镭射形成有多个ITO块，所述绑定区中的每个所述ITO块的宽度均小于0.3mm。

7.根据权利要求6所述的电阻触摸屏，其特征在于：所述绑定区中设有多个相间设置的所述引线端子，在相邻两个所述引线端子之间，通过激光镭射形成有激光镭射密集区域，在所述激光镭射密集区域中，相邻两条镭射线之间的线距范围为10～30um，所述激光镭射密集区域的宽度大于0.5mm，所述激光镭射密集区域的长度小于等于最短引线端子的长度。

8.根据权利要求1至3任一项所述的电阻触摸屏，其特征在于：银浆线路通过网版印刷在所述ITO导电基材上。

9.一种电阻触摸屏的制作方法，其特征在于：包括以下步骤，

在ITO导电基材上印刷导电银浆并固化，形成银浆线路；

在印刷有银浆线路的ITO导电基材上通过激光镭射对没有被银浆线路遮挡的ITO进行图形化，形成绑定区、功能DUMMY区和无功能DUMMY区；

其中，激光镭射ITO形成镭射线，所述绑定区和所述无功能DUMMY区通过激光镭射形成有ITO块，且所述绑定区中激光镭射线的密度大于所述无功能DUMMY区中激光镭射线的密度。