[发明专利]多孔基质过滤器及其制作方法在审

专利信息
申请号: 202010449411.4 申请日: 2016-02-13
公开(公告)号: CN111593324A 公开(公告)日: 2020-08-28
发明(设计)人: B·C·亨德里克斯;D·W·彼得斯;李卫民;C·瓦尔德弗里德;R·A·库克;N·困达;林奕宽 申请(专利权)人: 恩特格里斯公司
主分类号: C23C16/40 分类号: C23C16/40;C23C16/455;B01D46/00;B01D46/54
代理公司: 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 代理人: 李婷
地址: 美国马*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 多孔 基质 过滤器 及其 制作方法
【权利要求书】:

1.一种多孔基质过滤器,其包括金属薄膜,其中所述金属薄膜使用具有从20μm到2000μm的范围的渗透深度的金属氧化物涂层来囊封。

2.根据权利要求1所述的多孔基质过滤器,其中所述金属薄膜由不锈钢、镍或钛形成。

3.根据权利要求1所述多孔基质过滤器,其中所述金属薄膜为不锈钢纤维、粒子、或二者组合的烧结基质。

4.根据权利要求1所述多孔基质过滤器,其中所述金属氧化物涂层包括选自由以下各项组成的群组的金属氧化物:二氧化钛;氧化铝;氧化锆;式MO的氧化物,其中M为Ca、Mg或Be;式M'O2的氧化物,其中M'为化学计量上可接受的金属;及式Ln2O3的氧化物,其中Ln为镧系元素La、Sc或Y。

5.根据权利要求1所述多孔基质过滤器,其中所述金属氧化物涂层为氧化铝涂层。

6.根据权利要求1所述多孔基质过滤器,其中所述金属氧化物涂层为具有从2nm到500nm的厚度范围的ALD涂层。

7.根据权利要求1所述多孔基质过滤器,其中所述金属氧化物涂层为ALD涂层,所述ALD涂层具有经定向变化以在所述多孔基质过滤器内提供对应孔隙大小梯度的厚度。

8.一种过滤器,其包括金属纤维、金属粒子、或金属纤维和金属粒子组合的基质,所述基质在其上具有ALD涂层,

其中与在上面缺少所述ALD涂层的金属纤维、金属粒子、或金属纤维和金属粒子组合的对应基质相比,所述ALD涂层不会将所述金属纤维、金属粒子、或金属纤维和金属粒子组合的所述基质的孔隙体积更改多于5%,且

其中所述基质由具有从1μm到40μm的范围内的直径的孔隙表征。

9.一种制作多孔基质过滤器的方法,其包括通过ALD使用金属氧化物涂层来囊封金属薄膜以达到从20μm到2000μm的范围的渗透深度。

10.根据权利要求9所述的方法,其中所述涂层厚度经定向变化以在所述过滤器中提供对应孔隙大小梯度。

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