[发明专利]发光背板以及发光背板的制备方法

权利要求书

1.一种发光背板，其特征在于，包括：

基板；

位于所述基板上的反射层；

在所述反射层远离所述基板一侧依次层叠设置的平坦化层、以及驱动电路层；

位于所述驱动电路层远离所述基板一侧的多个发光单元。

2.根据权利要求1所述的发光背板，其特征在于，所述反射层远离所述基板一侧的表面具有多个第一凹坑，每个所述发光单元与每个所述第一凹坑相对设置。

3.根据权利要求2所述的发光背板，其特征在于，还包括：位于所述基板与所述反射层之间的磷硅玻璃层；所述磷硅玻璃层远离所述基板一侧的表面具有多个第二凹坑，所述第一凹坑与所述第二凹坑相嵌合。

4.根据权利要求3所述的发光背板，其特征在于，所述第二凹坑的表面呈圆弧状，所述第二凹坑的曲率半径为预设像素尺寸的0.5～5倍。

5.根据权利要求1所述的发光背板，其特征在于，所述反射层为无机布拉格反射层，所述反射层的厚度范围在1微米～5微米。

6.根据权利要求1所述的发光背板，其特征在于，所述第一凹坑的表面呈阶梯状或呈圆弧状。

7.根据权利要求1所述的发光背板，其特征在于，所述第一凹坑的开口大小为所述发光单元的尺寸的1～2倍。

8.一种发光背板的制备方法，其特征在于，

在基板上制备反射层；

在所述反射层远离所述基板的一侧依次制备平坦化层、以及驱动电路层，

在所述驱动电路层远离所述基板的一侧制备多个发光单元。

9.根据权利要求8所述的发光背板的制备方法，其特征在于，所述在基板上制备反射层之前，还包括：

在所述基板上制备磷硅玻璃层；

在所述磷硅玻璃层上形成多个第二凹坑，所述第一凹坑与所述第二凹坑相嵌合。

10.根据权利要求9所述的发光背板的制备方法，其特征在于，所述在所述磷硅玻璃层上形成多个第二凹坑之后，且在基板上制备反射层之前，还包括：

对具有所述第二凹坑的磷硅玻璃层进行高温回流以使所述第二凹坑的表面呈圆弧状。