[发明专利]显示面板及其制作方法有效

专利信息
申请号: 202010346344.3 申请日: 2020-04-27
公开(公告)号: CN111430442B 公开(公告)日: 2022-11-25
发明(设计)人: 简庆宏 申请(专利权)人: 武汉华星光电半导体显示技术有限公司
主分类号: H01L27/32 分类号: H01L27/32;H01L51/52;H01L51/56
代理公司: 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 代理人: 张晓薇
地址: 430079 湖北省武汉市东湖新技术*** 国省代码: 湖北;42
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 显示 面板 及其 制作方法
【说明书】:

发明提供了显示面板及其制作方法,显示面板具有显示区和包围显示区的非显示区,包括衬底以及设于衬底上的封装层;衬底上具有设于非显示区的沟槽,当从沟槽远离显示区的一侧切割显示面板时,沟槽用于阻挡裂纹延伸;封装层设于沟槽靠近显示区的一侧,封装层包括第一无机层、第二无机层,第一无机层和第二无机层具有相同的边界,第一无机层和第二无机层通过同一光学掩模版形成,以缩短所述边界与所述显示区之间的距离;本方案可以占用显示面板较少的边缘区域,以提高显示面板的屏占比。

技术领域

本申请涉及显示技术领域,尤其涉及显示面板制造技术领域,具体涉及显示面板及其制作方法。

背景技术

OLED(Organic Light Emitting Diode,有机发光二极管)显示器件具备重量轻、厚度薄、可弯曲、视角范围大等优点,但是OLED材料遇到水氧容易快速衰减及老化,因此需要在OLED材料外围设置封装层进行封装。

然而,现有的封装技术中,封装层需要占用OLED显示面板较多的边缘区域,导致OLED显示面板的非显示区较大,降低了OLED显示面板的屏占比。

综上所述,有必要提供一种可以提高屏占比的显示面板以及显示装置。

发明内容

本发明的目的在于提供显示面板及其制作方法,通过同一光学掩模版制备封装层中的第一无机层、第二无机层,使得第一无机层、第二无机层具有相同的边界,解决了现有的封装层需要占用OLED显示面板较多的边缘区域,从而降低了OLED显示面板的屏占比的问题。

本发明实施例提供一种显示面板,所述显示面板具有显示区和包围所述显示区的非显示区,所述显示面板包括:

衬底,所述衬底上具有沟槽,所述沟槽设于所述非显示区,当从所述沟槽远离所述显示区的一侧切割所述显示面板时,所述沟槽用于阻挡裂纹延伸;

封装层,所述封装层设于所述衬底上,所述封装层设于所述沟槽靠近所述显示区的一侧,所述封装层包括第一无机层、第二无机层,所述第一无机层和所述第二无机层具有相同的边界,所述第一无机层和所述第二无机层通过同一光学掩模版形成,以缩短所述边界与所述显示区之间的距离。

在一实施例中,所述显示面板还包括光阻层,所述光阻层设于所述封装层靠近所述衬底的一侧,所述光阻层包括第一光阻部,所述第一光阻部与所述沟槽相对设置。

在一实施例中,所述第一无机层和所述第二无机层的边界位于所述第一光阻部上。

在一实施例中,所述显示面板还包括挡墙,所述挡墙设于所述封装层与所述光阻层之间,所述挡墙设于所述沟槽靠近所述显示区的一侧,所述沟槽与所述挡墙之间的水平距离大于30微米、且小于100微米。

在一实施例中,所述光阻层还包括第二光阻部,所述第二光阻部设于所述沟槽靠近所述显示区的一侧,所述第二光阻部承载所述挡墙以及所述封装层。

在一实施例中,所述第二光阻部与所述第一光阻部之间具有间隙,所述封装层设于所述第一光阻部、所述间隙、所述挡墙以及所述第二光阻部上。

在一实施例中,所述封装层还包括有机层,所述有机层设于所述第一无机层和所述第二无机层之间,所述有机层设于所述挡墙靠近所述显示区的一侧。

本发明实施例还提供显示面板的制作方法,用于制作如上文任一所述的显示面板,所述显示面板具有显示区和包围所述显示区的非显示区,其特征在于,所述方法包括:

提供一衬底,所述衬底上具有沟槽,所述沟槽设于所述非显示区,当从所述沟槽远离所述显示区的一侧切割所述显示面板时,所述沟槽用于阻挡裂纹延伸;

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于武汉华星光电半导体显示技术有限公司,未经武汉华星光电半导体显示技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202010346344.3/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top