[发明专利]一种像素结构及其制备方法、显示面板

权利要求书

1.一种像素结构，其特征在于，包括：

基板；

第一像素隔堤，设置于所述基板上，且与所述基板的长边方向相交；以及

第二像素隔堤，跨过所述第一像素隔堤设置于所述基板上，且与所述基板的所述长边方向平行；

其中，相邻的两个所述第二像素隔堤之间设置有同一颜色的发光材料，且所述发光材料覆盖部分所述第一像素隔堤上。

2.根据权利要求1所述的像素结构，其特征在于，所述第一像素隔堤与所述基板的所述长边方向呈45度或135度夹角。

3.根据权利要求2所述的像素结构，其特征在于，所述第二像素隔堤的厚度大于所述第一像素隔堤的厚度。

4.根据权利要求2所述的像素结构，其特征在于，所述基板包括驱动电路以及设置在驱动电路上的像素电极，所述像素电极通过过孔与所述驱动电路连接，且所述过孔均位于所述第一像素隔堤的相对下方。

5.根据权利要求4所述的像素结构，其特征在于，所述像素电极包括位于所述第一像素隔堤和所述第二像素隔堤限定区域内的主电极，以及与所述主电极电性连接且分别位于所述主电极两对角侧的连接电极和桥接电极，所述连接电极通过所述过孔与所述驱动电路连接。

6.根据权利要求5所述的像素结构，其特征在于，所述连接电极和所述桥接电极均位于所述第一像素隔堤的下方，且所述桥接电极与同行且相邻的另一所述像素电极上的所述连接电极间隔设置。

7.一种像素结构的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

步骤S10、制备基板，包括提供一衬底，在所述衬底上制备驱动电路，在所述驱动电路上制备像素电极，所述像素电极通过过孔与所述驱动电路连接且所述像素电极之间平行间隔设置，所述像素电极的长边方向与所述基板的长边方向平行；

步骤S20、制备像素隔堤，包括在所述基板上制备第一像素隔堤，在所述基板上制备第二像素隔堤，其中所述第二像素隔堤跨过所述第一像素隔堤，所述第二像素隔堤的厚度大于所述第一像素隔堤的厚度；以及

步骤S30、制备发光层，包括在相邻的所述第二像素隔堤之间涂布同一颜色的发光材料。

8.根据权利要求7所述的像素结构制备方法，其特征在于，在步骤S10中，每个所述像素电极包括呈平行四边形设置的主电极以及分别位于所述主电极两对角侧的连接电极和桥接电极，所述桥接电极与同行且相邻的另一所述像素电极上的所述连接电极间隔设置，且所述主电极内角的角度为45度或135度。

9.根据权利要求8所述的像素结构制备方法，其特征在于，在步骤S20中，所述第一像素隔堤位于所述主电极短边之间的间隔之中，且覆盖所述连接电极和所述桥接电极；所述第二像素隔堤位于所述主电极长边之间的间隔之中。

10.一种显示面板，其特征在于，包括如权利要求1至6任一项所述的像素结构。