[发明专利]一种偏振分束光栅及其制作方法在审
| 申请号： | 202010091166.4 | 申请日： | 2020-02-13 |
| 公开（公告）号： | CN111308596A | 公开（公告）日： | 2020-06-19 |
| 发明（设计）人： | 张新彬;李广伟;陈怀熹;冯新凯;古克义;梁万国;黄玉宝 | 申请（专利权）人： | 中国科学院福建物质结构研究所 |
| 主分类号： | G02B5/18 | 分类号： | G02B5/18;G02B27/10 |
| 代理公司： | 北京元周律知识产权代理有限公司 11540 | 代理人： | 校丽丽 |
| 地址： | 350002 福建*** | 国省代码： | 福建;35 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 偏振 光栅 及其 制作方法 | ||
1.一种偏振分束光栅，其特征在于，包括：
基底结构，所述基底结构包括第一面和第二面；
光栅结构，所述光栅结构设置在所述第一面上；
入射光可从所述第二面射入所述基底结构内，且射向所述光栅结构的光栅面，所述光栅面为所述光栅结构与所述基底结构接触的表面；
且Npsinθi＞1；其中，θi为所述入射光的入射角，Np为所述基底结构的折射率。
2.根据权利要求1所述的偏振分束光栅，其特征在于，所述光栅结构通过刻蚀介质膜制备而成。
3.根据权利要求2所述的偏振分束光栅，其特征在于，所述光栅结构的折射率大于或等于1.9。
4.根据权利要求1所述的偏振分束光栅，其特征在于，所述基底结构包括第一基底和设置在所述第一基底上的第二基底；所述第二基底包括所述第一面；所述第一基底包括所述第二面；
所述第二基底和所述第一基底面接触；
所述第二基底的折射率与所述第一基底的折射率的差值小于预设阈值。
5.根据权利要求1所述的偏振分束光栅，其特征在于，所述光栅结构的占空比F的取值范围为0.4～1.0；
其中，F＝W/d，W为所述光栅结构的宽度；d为所述光栅结构的周期。
6.根据权利要求1所述的偏振分束光栅，其特征在于，所述光栅结构的光栅脊的侧面与底面的夹角θ的范围为75°≤θ≤90°。
7.根据权利要求1所述的偏振分束光栅，其特征在于，所述光栅结构的光栅脊为多层结构，每层结构的材料不同。
8.根据权利要求1所述的偏振分束光栅，其特征在于，所述光栅结构满足h≤2d；
其中，h为所述光栅结构的深度，d为所述光栅结构的周期。
9.根据权利要求1所述的偏振分束光栅，其特征在于，所述光栅结构的周期d满足：λ/(2Np)≤d≤λ/Np；
其中：λ为所述入射光的波长；Np为所述基底结构的折射率。
10.一种应用于权利要求1至9中任一项所述的偏振分束光栅的制作方法，其特征在于，包括以下步骤：
在基底结构上镀介质膜；
将所述介质膜刻蚀为光栅结构。
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