[发明专利]一种显示基板及其制作方法、显示装置在审

专利信息
申请号: 202010046339.0 申请日: 2020-01-16
公开(公告)号: CN111224015A 公开(公告)日: 2020-06-02
发明(设计)人: 陈善韬 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司
主分类号: H01L51/52 分类号: H01L51/52;H01L51/56;H01L27/32
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 代理人: 许静;胡影
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 显示 及其 制作方法 显示装置
【说明书】:

发明提供一种显示基板及其制作方法、显示装置,涉及显示技术领域,为解决现有技术中,隔离柱无法将阴极隔断的问题。所述显示基板包括:基底和设置于所述基底上的隔离柱;所述隔离柱包括一体结构的第一部分和第二部分,所述第一部分位于所述基底和所述第二部分之间;其中,所述第二部分包括一体结构的第一子部分和第二子部分;所述第一子部分在所述基底上的正投影与所述第一部分在所述基底上的正投影重合,所述第二子部分在所述基底上的正投影与所述第一部分在所述基底上的正投影不交叠。本发明提供的显示基板用于显示画面。

技术领域

本发明涉及显示技术领域,尤其涉及一种显示基板及其制作方法、显示装置。

背景技术

在有机发光二极管(英文:Organic Light-Emitting Diode,简称:OLED)显示面板中,一般采用蒸镀的方法形成阴极,这样只需在显示面板中设置倒梯形结构的隔离柱即可将阴极隔断。然而随着各种新技术的发展,有些用于制作阴极的材料已经不再适用于蒸镀方法制备,例如:目前出现的利用具有良好延展性的金属或金属氧化物,通过溅射工艺形成的阴极,这种方式形成的阴极,倒梯形结构的隔离柱无法将其隔断,导致显示面板中的阴极无法实现预期结构,出现显示面板良率降低的问题。

发明内容

本发明的目的在于提供一种显示基板及其制作方法、显示装置,用于解决现有技术中,隔离柱无法将阴极隔断的问题。

为了实现上述目的,本发明提供如下技术方案:

本发明的第一方面提供一种显示基板,包括:基底和设置于所述基底上的隔离柱;所述隔离柱包括一体结构的第一部分和第二部分,所述第一部分位于所述基底和所述第二部分之间;其中,

所述第二部分包括一体结构的第一子部分和第二子部分;所述第一子部分在所述基底上的正投影与所述第一部分在所述基底上的正投影重合,所述第二子部分在所述基底上的正投影与所述第一部分在所述基底上的正投影不交叠。

可选的,所述第二子部分位于所述第一子部分沿平行于所述基底的方向相对的两侧。

可选的,所述第二子部分在所述基底上的正投影,包围所述第一子部分在所述基底上的正投影。

可选的,所述隔离柱采用负性光刻胶材料制作。

可选的,所述显示基板还包括:

设置于所述基底与所述隔离柱的第一部分之间的驱动电路层;

设置于所述驱动电路层背向所述基底的一侧的像素界定层,所述隔离柱的第一部分位于所述像素界定层背向所述基底的表面。

基于上述显示基板的技术方案,本发明的第二方面提供一种显示装置,包括上述显示基板。

基于上述显示基板的技术方案,本发明的第三方面提供一种显示基板的制作方法,用于制作上述显示基板,所述制作方法包括在基底上制作隔离柱的步骤,该步骤具体包括:

利用正性光刻胶材料,在基底上形成正性光刻胶图形;

对所述正性光刻胶图形完全曝光;

利用负性光刻胶材料,继续在所述基底上形成负性光刻胶层,所述负性光刻胶层覆盖完全曝光后的正性光刻胶图形;

对所述负性光刻胶层进行曝光,形成负性光刻胶保留区域和负性光刻胶去除区域,所述负性光刻胶保留区域对应所述隔离柱所在区域,所述负性光刻胶去除区域对应除所述隔离柱所在区域之外的其它区域;位于所述负性光刻胶保留区域的负性光刻胶包括一体结构的第一部分和第二部分,所述第一部分位于所述基底和所述第二部分之间;其中,所述第二部分包括:第一子部分,以及位于所述第一子部分周边的第二子部分;所述第一子部分在所述基底上的正投影与所述第一部分在所述基底上的正投影重合,且与完全曝光后的正性光刻胶图形在所述基底上的正投影不交叠;

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