[发明专利]一种显示基板及其制作方法、显示装置

权利要求书

1.一种显示基板，其特征在于，包括：基底和设置于所述基底上的隔离柱；所述隔离柱包括一体结构的第一部分和第二部分，所述第一部分位于所述基底和所述第二部分之间；其中，

所述第二部分包括一体结构的第一子部分和第二子部分；所述第一子部分在所述基底上的正投影与所述第一部分在所述基底上的正投影重合，所述第二子部分在所述基底上的正投影与所述第一部分在所述基底上的正投影不交叠。

2.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述第二子部分位于所述第一子部分沿平行于所述基底的方向相对的两侧。

3.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述第二子部分在所述基底上的正投影，包围所述第一子部分在所述基底上的正投影。

4.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述隔离柱采用负性光刻胶材料制作。

5.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述显示基板还包括：

设置于所述基底与所述隔离柱的第一部分之间的驱动电路层；

设置于所述驱动电路层背向所述基底的一侧的像素界定层，所述隔离柱的第一部分位于所述像素界定层背向所述基底的表面。

6.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求1～5中任一项所述的显示基板。

7.一种显示基板的制作方法，其特征在于，用于制作如权利要求1～5中任一项所述的显示基板，所述制作方法包括在基底上制作隔离柱的步骤，该步骤具体包括：

利用正性光刻胶材料，在基底上形成正性光刻胶图形；

对所述正性光刻胶图形完全曝光；

利用负性光刻胶材料，继续在所述基底上形成负性光刻胶层，所述负性光刻胶层覆盖完全曝光后的正性光刻胶图形；

对所述负性光刻胶层进行曝光，形成负性光刻胶保留区域和负性光刻胶去除区域，所述负性光刻胶保留区域对应所述隔离柱所在区域，所述负性光刻胶去除区域对应除所述隔离柱所在区域之外的其它区域；位于所述负性光刻胶保留区域的负性光刻胶包括一体结构的第一部分和第二部分，所述第一部分位于所述基底和所述第二部分之间；其中，所述第二部分包括：第一子部分，以及位于所述第一子部分周边的第二子部分；所述第一子部分在所述基底上的正投影与所述第一部分在所述基底上的正投影重合，且与完全曝光后的正性光刻胶图形在所述基底上的正投影不交叠；

所述第二子部分在所述基底上的正投影与所述第一部分在所述基底上的正投影不交叠，且与完全曝光后的正性光刻胶图形在所述基底上的正投影部分交叠；

利用显影液将位于所述负性光刻胶去除区域的负性光刻胶层，以及完全曝光后的正性光刻胶图形去除，形成所述隔离柱。

8.根据权利要求7所述的显示基板的制作方法，其特征在于，利用显影液将位于所述负性光刻胶去除区域的负性光刻胶层，以及完全曝光后的正性光刻胶图形去除的步骤具体包括：

利用相同的显影液将位于所述负性光刻胶去除区域的负性光刻胶层，以及完全曝光后的正性光刻胶图形去除。

9.根据权利要求7所述的显示基板的制作方法，其特征在于，利用显影液将位于所述负性光刻胶去除区域的负性光刻胶层，以及完全曝光后的正性光刻胶图形去除的步骤具体包括：

利用第一显影液将位于所述负性光刻胶去除区域的负性光刻胶层去除，暴露部分完全曝光后的正性光刻胶图形；

利用第二显影液将完全曝光后的正性光刻胶图形去除。

10.根据权利要求7所述的显示基板的制作方法，其特征在于，所述制作方法还包括：

对所述隔离柱进行固化。