[发明专利]蚀刻组合物

权利要求书

1.一种蚀刻组合物，包含：

至少一种含氟酸，所述至少一种含氟酸的量为所述组合物的至多2wt％，所述至少一种含氟酸包含氢氟酸或六氟硅酸；

至少一种氧化剂，所述至少一种氧化剂的量为所述组合物的5wt％至20wt％；

至少一种有机酸或其酸酐，所述至少一种有机酸或其酸酐的量为所述组合物的30wt％至90wt％，所述至少一种有机酸包含甲酸、乙酸、丙酸或丁酸；

至少一种聚合萘磺酸；所述至少一种聚合萘磺酸的含量为所述组合物的0.005wt％至0.15wt％；所述至少一种聚合萘磺酸包含具有如下结构的磺酸：

其中n是3至6；

至少一种胺，所述至少一种胺的量为所述组合物的0.001wt％至0.15wt％，所述至少一种胺包含化学式(I)：N-R₁R₂R₃的胺，其中R₁是任选被OH或NH₂取代的C₁-C₈烷基，R₂是H或任选被OH取代的C₁-C₈烷基，以及R₃是任选被OH取代的C₁-C₈烷基；以及

水。

2.根据权利要求1所述的组合物，其中，所述至少一种聚合萘磺酸的含量为所述组合物的0.005wt％至0.14wt％。

3.根据权利要求1所述的组合物，其中，所述化学式(I)的胺是二异丙胺、N-丁基二乙醇胺、N-(3-氨丙基)-二乙醇胺、葡辛胺、葡乙胺、葡甲胺或1-[双(2-羟乙基)氨基]-2-丙醇。

4.根据权利要求1所述的组合物，其中，所述至少一种胺的量为所述组合物的0.005wt％至0.05wt％。

5.根据权利要求1所述的组合物，其中，所述至少一种含氟酸的量为所述组合物的至多0.5wt％。

6.根据权利要求1所述的组合物，其中，所述至少一种氧化剂包含过氧化氢或过氧乙酸。

7.根据权利要求1所述的组合物，其中，所述至少一种氧化剂的量为所述组合物的6wt％至10wt％。

8.根据权利要求1所述的组合物，其中，所述至少一种有机酸或其酸酐包含乙酸或乙酸酐。

9.根据权利要求1所述的组合物，其中，所述至少一种有机酸或其酸酐的量为所述组合物的60wt％至80wt％。

10.根据权利要求1所述的组合物，其中，所述水的量为所述组合物的20wt％至75wt％。

11.根据权利要求1所述的组合物，进一步包含至少一种有机溶剂。

12.根据权利要求11所述的组合物，其中，所述至少一种有机溶剂包含醇或烷二醇醚。

13.根据权利要求11所述的组合物，其中，所述至少一种有机溶剂包含丙二醇、己二醇、1,3-丙二醇或乙二醇丁醚。

14.根据权利要求11所述的组合物，其中，所述至少一种有机溶剂的量为所述组合物的10wt％至40wt％。

15.根据权利要求1所述的组合物，进一步包含至少一种糖醇。

16.根据权利要求15所述的组合物，其中，所述至少一种糖醇包含甘露醇或山梨醇。

17.根据权利要求1所述的组合物，进一步包含至少一种硼酸。