[发明专利]用于透明基板的背侧涂层

说明书

本文描述的实施方式涉及半导体处理。更具体地，本文描述的实施方式涉及透明基板的处理。膜沉积在透明基板的背侧上。确定膜的厚度，以使所述膜反射特定波长的光并且大体上防止基板弯曲。膜提供对特定波长的光的相长干涉。

相关申请的交叉引用

本申请要求2018年12月17日提交的美国临时专利申请第62/780,796号的权益，上述申请的全部内容通过引用合并于此。

背景

领域

本公开内容的实施方式通常涉及处理透明基板，并且更具体地涉及沉积在透明基板上以增加透明基板的不透明度和/或反射率的膜。

相关技术的说明

常规的基板处理设备利用例如激光器的光学传感器来识别并且对准基板以在基板中进行处理。然而，光学传感器无法检测透明基板，因为来自光学传感器的光穿过透明基板。可以将膜沉积在基板上以改善对基板的检测。但是，膜可能导致基板弯曲，从而干扰光学传感器，并可能导致损坏在基板上构建的装置。

因此，本领域中需要一种用于处理基板的改进的膜。

概述

在一个实施方式中，提供沉积膜的方法。方法包括获得从传感器发射的光的波长。确定(identify)材料的折射率。通过将从传感器发射的光的波长除以材料折射率的两倍，确定(determine)材料的目标厚度。材料沉积在基板上以形成具有目标厚度的膜。

在另一个实施方式中，提供沉积膜的方法。方法包括获得从传感器发射的光的波长。确定含硅材料的折射率。通过将从传感器发射的光的波长除以材料折射率的两倍，确定材料的目标厚度。材料沉积在基板上以形成具有目标厚度的膜。

在一个实施方式中，提供一种设备，所述设备包括具有第一侧和与第一侧相对的第二侧的透明基板。膜沉积在基板的第二侧上。膜的厚度等于从传感器发出的光的波长除以膜材料的折射率的两倍。

附图简要说明

为了可以详细地理解本公开内容的上述特征的方式，可以通过参考实施方式获得上文简要概述的本公开内容的更详细描述，其中一些实施方式在附图中图示。然而，应注意，附图仅图示示例性实施方式，因此不应被认为是对本公开内容的范围的限制，可以允许其他等效实施方式。

图1图示根据本公开内容实施方式的用于在基板上形成膜的方法的操作。

图2图示根据本公开内容的实施方式的设备。

为了便于理解，已尽可能使用相同的参考数字来表示图中共有的相同元件。可以预期的是，一个实施方式的元件和特征可以被有益地并入其他实施方式中，而无需进一步叙述。

具体说明

本文描述的实施方式涉及半导体处理。更具体地，本文描述的实施方式涉及透明基板的处理。膜沉积在透明基板的背侧上。确定膜的厚度，以使所述膜反射特定波长的光并且大体上防止基板弯曲。膜提供对特定波长的光的相长干涉(constructiveinterference)。

使用发射特定波长的光的一个或多个光学传感器来检测和对准用于处理的基板。当要处理透明基板时，一个或多个光学传感器无法检测透明基板，因为来自光学传感器的光穿过透明基板。因此，将膜沉积在透明基板的背侧上，以通过提供来自光学传感器的光的相长干涉，来增加基板的反射率或不透明度。基板的背侧与形成一个或多个元件所在的基板那侧相对。