[发明专利]高功率光泵浦半导体盘形激光器的宽带有源反射镜架构在审

专利信息
申请号: 201980061374.5 申请日: 2019-09-19
公开(公告)号: CN112753145A 公开(公告)日: 2021-05-04
发明(设计)人: 曼苏尔·谢赫·巴哈;亚历山大·罗伯特·阿尔布雷克特;Z·扬 申请(专利权)人: 新墨西哥大学雨林创新
主分类号: H01S5/183 分类号: H01S5/183
代理公司: 上海弼兴律师事务所 31283 代理人: 薛琦;徐婕超
地址: 美国新*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 功率 光泵浦 半导体 激光器 宽带 有源 反射 镜架
【权利要求书】:

1.一种垂直外腔表面发射激光器(VECSEL),包括:

热沉;

散热器,该散热器形成在该热沉的顶表面上,其中该散热器包括具有第一折射率的第一材料;

半导体有源区,该半导体有源区形成在该散热器的顶表面上,其中该半导体有源区包括具有第二折射率的第二材料;以及

高对比度光栅,该高对比度光栅形成在该半导体有源区的顶表面上,其中该高对比度光栅包括具有第三折射率的第三材料,

其中该第二折射率大于该第一折射率和第三折射率,该第三折射率代表入射在该高对比度光栅上的泵浦激光的介质。

2.如权利要求1所述的VECSEL,其中,该散热器使用导热粘合剂而结合到该热沉。

3.如权利要求1所述的VECSEL,其中,该半导体有源区使用范德华结合而结合到该散热器。

4.如权利要求1所述的VECSEL,其中,该半导体有源区包括增益芯片。

5.如权利要求1所述的VECSEL,其中,该半导体有源区包括GaAs、AlGaAs、InGaAs、InP/AlInGaAs/InGaAs、GaSb/AlGaAsSb/InGaAsSb、或GaAs/AlAs/AlGaAs/GaInP/AlGaInP。

6.如权利要求1所述的VECSEL,其中,该高对比度光栅的周期、填充因子、蚀刻深度、折射率被优化成使得来自该高对比度光栅的零级衍射被最小化,并且更高衍射级被透射为在该散热器的界面处实现全内反射。

7.如权利要求1所述的VECSEL,其中,该散热器是金刚石、碳化硅、蓝宝石或另一种高热导率的透明散热器。

8.如权利要求1所述的VECSEL,其中,该半导体有源区包括体半导体、异质结构、一个或多个量子阱、或一个或多个量子点层。

9.如权利要求1所述的VECSEL,其中,该散热器经由与冷却介质直接接触或通过附接到该热沉来冷却。

10.如权利要求9所述的VECSEL,其中,该散热器使用导热胶、焊料或机械附接件而结合到该热沉。

11.一种形成垂直外腔表面发射激光器(VECSEL)的方法,该方法包括:

将散热器结合到热沉的顶表面,其中该散热器包括具有第一折射率的第一材料;

将有源区结合到该散热器的顶表面,其中该有源区包括具有第二折射率的第二材料;以及

将高对比度光栅结合在该有源区的顶表面上,其中该高对比度光栅包括具有第三折射率的第三材料,其中该第二折射率大于该第一折射率和第三折射率,该第三折射率代表入射在该高对比度光栅上的泵浦激光的介质。

12.如权利要求11所述的方法,其中,该散热器使用导热粘合剂而结合到该热沉。

13.如权利要求11所述的方法,其中,该有源区使用范德华结合而结合到该散热器。

14.如权利要求11所述的方法,其中,该有源区包括半导体有源区。

15.如权利要求11所述的方法,其中,该有源区包括GaAs、AlGaAs、InGaAs、InP/AlInGaAs/InGaAs、GaSb/AlGaAsSb/InGaAsSb、或GaAs/AlAs/AlGaAs/GaInP/AlGaInP。

16.如权利要求11所述的方法,其中,该高对比度光栅的周期、填充因子、蚀刻深度、折射率被优化成使得来自该高对比度光栅的零级衍射被最小化,并且更高衍射级被透射为在该散热器的界面处实现全内反射。

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