[实用新型]一种用于半导体封装的压平机台有效

专利信息
申请号: 201921077455.8 申请日: 2019-07-10
公开(公告)号: CN209747454U 公开(公告)日: 2019-12-06
发明(设计)人: 吴黎明;翟佶睿;杨轲 申请(专利权)人: 江苏芝麻智能科技有限公司;炘沛半导体科技(溧阳)有限公司
主分类号: H01L21/603 分类号: H01L21/603
代理公司: 37245 济南鼎信专利商标代理事务所(普通合伙) 代理人: 初敏敏<国际申请>=<国际公布>=<进入
地址: 213300 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 模具块 基板 底座 升降台 本实用新型 固定板 压平板 支撑柱 锡球 压平 机台 半导体封装 压平装置 承载台 限位块 位块 半导体 对称 承载
【说明书】:

实用新型公开了一种用于半导体封装的压平机台,主要涉及半导体生产领域。包括底座,所述底座上设有承载台,所述承载台上设有基板、模具块,所述基板与模具块的高度相同,所述基板上设有锡球,所述底座的两侧对称的设有支撑柱,所述支撑柱上设有固定板,所述固定板的底部设有升降台,所述升降台的底部设有压平板,所述压平板的底部设有限位块,所述限位块位于模具块的正上方。本实用新型的有益效果在于:它可以对锡球进行压平操作时有效的保护基板的完整,提高压平装置的安全性。

技术领域

本实用新型涉及半导体生产领域,具体是一种用于半导体封装的压平机台。

背景技术

半导体现在一般使用由倒装芯片接合的生产技术,大大提高了半导体生产的效率和精度,在半导体的生产中,需要对其上锡球进行压平操作,以保证生产工艺对芯片板之间线路间距的要求,但是现有的压平装置在压制方式上存在误差,也有针对此提出改进的装置,但是这种改进的装置会直接将高度限位装置与芯片的基板相接触,这样很容易对基板造成损伤,在精度控制不当使可能是整个基板压碎,因此需要一种压平装置,能够提高锡球压平精度的同时有效的保护基板的安全。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种用于半导体封装的压平机台,它可以对锡球进行压平操作时有效的保护基板的完整,提高压平装置的安全性。

本实用新型为实现上述目的,通过以下技术方案实现:

一种用于半导体封装的压平机台,包括底座,所述底座上设有承载台,所述承载台上设有基板、模具块,所述基板与模具块的高度相同,所述基板上设有锡球,所述底座的两侧对称的设有支撑柱,所述支撑柱上设有固定板,所述固定板的底部设有升降台,所述升降台的底部设有压平板,所述压平板的底部设有限位块,所述限位块位于模具块的正上方。

进一步的,所述压平板的底部设有固定保护座,所述固定保护座对称的位于基板两侧的上方,所述固定保护座包括固定块、移动块、滑槽、缓冲弹簧,所述固定块设置在压平板的底部,所述滑槽竖直的设置在固定块上,所述移动块滑动连接在滑槽上,所述缓冲弹簧设置在移动块与压平板之间。

进一步的,所述移动块的底部设有橡胶垫。

进一步的,所述承载台上设有第一凹槽、第二凹槽,所述基板位于第一凹槽内,所述模具块位于第二凹槽内,所述第二凹槽内滑动连接有夹紧块,所述夹紧块与第二凹槽的一端之间设有压缩弹簧。

进一步的,所述压平板为不锈钢组件,所述限位块的顶部设有磁块,所述限位块通过磁块吸合在压平板的底部。

对比现有技术,本实用新型的有益效果在于:

本实用新型在承载台上设置与基板高度相同的模具块,在压平板的底部与模具块对应的位置设置限位块,所述限位块的高度既是需要压平的锡球的高度,当进行压平操作时,所述限位块逐渐下降,当限位块与模具块接触时,所述基板与压平板底部之间的距离即为最终需要压平的锡球的高度,而这个高度与限位块的高度相同,通过控制限位块的高度可以控制压平的高度,但是压平板却不用与基板相接触,有效的保护了基板的安全,保证生产成品的良品率,减小了对原材料的破坏。

附图说明

附图1是本实用新型的结构示意图。

附图2是本实用新型的固定保护座的结构示意图。

附图3是本实用新型的承载台的俯视图。

附图4是本实用新型的附图1中A部位的局部放大图。

附图中所示标号:

1、底座;2、承载台;3、基板;4、模具块;5、锡球;6、支撑柱;7、固定板;8、升降台;9、压平板;10、限位块;11、固定块;12、移动块;13、滑槽;14、缓冲弹簧;15、第一凹槽;16、第二凹槽;17、夹紧块;18、压缩弹簧。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于江苏芝麻智能科技有限公司;炘沛半导体科技(溧阳)有限公司,未经江苏芝麻智能科技有限公司;炘沛半导体科技(溧阳)有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201921077455.8/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top