[实用新型]密封构造以及处理装置

权利要求书

1.一种密封构造，用于对构成真空容器的构件之间的接合部进行密封，所述密封构造的特征在于，具有：

内侧密封构件，其配置于所述接合部；以及

外侧密封构件，其设置在所述接合部的与所述内侧密封构件相比更靠大气侧的位置，由气体透过率比所述内侧密封构件的气体透过率低的材料形成，

所述密封构造能够在所述真空容器内进行处理时在所述内侧密封构件与所述外侧密封构件之间形成密闭空间。

2.根据权利要求1所述的密封构造，其特征在于，

通过构成所述真空容器的构件、所述内侧密封构件以及所述外侧密封构件而形成密闭空间。

3.根据权利要求1所述的密封构造，其特征在于，

所述密封构造具有：

气体导入管，其能够向所述内侧密封构件与所述外侧密封构件之间导入非活性气体；以及

开闭阀，其插设于所述气体导入管，

通过构成所述真空容器的构件、所述内侧密封构件、所述外侧密封构件、所述气体导入管以及所述开闭阀而形成密闭空间。

4.根据权利要求1至3中的任一项所述的密封构造，其特征在于，

所述处理包括成膜处理、蚀刻处理以及清洁处理中的至少任一个处理。

5.根据权利要求1至3中的任一项所述的密封构造，其特征在于，

所述内侧密封构件是由全氟弹性体形成的O型密封圈，

所述外侧密封构件是由偏二氟乙烯类橡胶形成的O型密封圈。

6.根据权利要求4所述的密封构造，其特征在于，

所述内侧密封构件是由全氟弹性体形成的O型密封圈，

所述外侧密封构件是由偏二氟乙烯类橡胶形成的O型密封圈。

7.根据权利要求1至3中的任一项所述的密封构造，其特征在于，

所述内侧密封构件是由全氟弹性体形成的O型密封圈，

所述外侧密封构件是由聚偏二氯乙烯形成的薄膜。

8.根据权利要求4所述的密封构造，其特征在于，

所述内侧密封构件是由全氟弹性体形成的O型密封圈，

所述外侧密封构件是由聚偏二氯乙烯形成的薄膜。

9.一种处理装置，其特征在于，具有：

真空容器，其由多个构件构成；

处理气体导入部，其用于向所述真空容器内导入处理气体；

内侧密封构件，其配置于所述多个构件的接合部；以及

外侧密封构件，其设置在所述接合部的与所述内侧密封构件相比更靠大气侧的位置，由气体透过率比所述内侧密封构件的气体透过率低的材料形成，

所述处理装置能够在所述真空容器内进行处理时通过所述多个构件、所述内侧密封构件以及所述外侧密封构件来形成密闭空间。