[实用新型]去除封装结构散热盖的装置有效
申请号: | 201920316980.4 | 申请日: | 2019-03-13 |
公开(公告)号: | CN209626186U | 公开(公告)日: | 2019-11-12 |
发明(设计)人: | 王艳;刘永祥;何志丹;宁福英 | 申请(专利权)人: | 苏州通富超威半导体有限公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67;H01L23/40 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 徐文欣;吴敏 |
地址: | 215021 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 封装结构 散热盖 承载平台 刀片 去除 刀片机构 表面方向 切割力 放入 基板 可动 省时 省力 机械化 平行 | ||
1.一种去除封装结构散热盖的装置,其特征在于,包括:
承载平台,所述承载平台内具有凹槽;
刀片机构,所述刀片机构包括刀片和控制单元,所述刀片位于承载平台表面,所述刀片与控制单元连接,控制单元控制所述刀片沿平行于承载平台表面方向朝向凹槽或远离凹槽可动。
2.根据权利要求1所述的去除封装结构散热盖的装置,其特征在于,所述刀片机构还包括:加热单元,所述加热单元与刀片电连接,所述加热单元控制刀片的温度。
3.根据权利要求1或2所述的去除封装结构散热盖的装置,其特征在于,还包括:加热机构,所述加热机构位于承载平台内,凹槽底部暴露出加热机构表面。
4.根据权利要求1或2所述的去除封装结构散热盖的装置,其特征在于,还包括:可盖合于承载平台表面的密封盖,当所述密封盖盖合于所述承载平台表面时,所述密封盖与所述凹槽构成密封腔。
5.根据权利要求4所述的去除封装结构散热盖的装置,其特征在于,还包括:
加热机构,所述加热机构固定于所述密封盖顶部的内表面,且所述加热机构朝向承载平台。
6.根据权利要求5所述的去除封装结构散热盖的装置,其特征在于,还包括:
位于密封盖侧壁的抽气机构,用于抽取所述密封腔内的气体。
7.根据权利要求4所述的去除封装结构散热盖的装置,其特征在于,还包括:
位于承载平台内的升降机构,所述升降机构位于加热机构底部,所述升降机构带动所述加热机构沿垂直于承载平台所在的方向运动。
8.根据权利要求7所述的去除封装结构散热盖的装置,其特征在于,所述承载平台包括:位于所述凹槽底部的底板以及位于底板表面的移动侧板,所述移动侧板可沿平行于底板表面的方向移动。
9.根据权利要求8所述的去除封装结构散热盖的装置,其特征在于,所述升降机构还包括:位于升降机构内的旋转单元,所述旋转单元位于加热机构底部,所述旋转单元带动所述加热机构沿平行于承载平台表面的方向运动。
10.根据权利要求1所述的去除封装结构散热盖的装置,其特征在于,所述刀片的厚度为0.2mm~0.4mm。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于苏州通富超威半导体有限公司,未经苏州通富超威半导体有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201920316980.4/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种半导体器件封装装置
- 下一篇:一种BGA器件返修植球工装
- 同类专利
- 专利分类
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造