[实用新型]一种掩膜板、彩膜基板、显示面板、显示装置

说明书

本申请提供了一种掩膜板、彩膜基板、显示面板、显示装置，用以顺利制作SLOC产品的低温保护层。掩膜板用于制作黑矩阵和间距测试平台，包括：第一透光区、第二透光区和非透光区；第一透光区设置在需要制作黑矩阵的位置；第二透光区设置在需要制作间距测试平台的位置；间距测试平台用于在采用近接式曝光机制作待制作膜层时，遮挡待制作膜层下方的金属走线。在采用近接式曝光机制作待制作膜层时，由于间距测试平台能够遮挡待制作膜层下方的金属走线，因此，间距测试平台的设置可以有效遮挡待制作膜层下方的金属走线，避免金属走线反光对近接式曝光的影响，可以顺利制作SLOC产品的待制作膜层。

技术领域

本申请涉及显示技术领域，尤其涉及一种掩膜板、彩膜基板、显示面板、显示装置。

背景技术

随着科技的进步，触控面板的产品应用领域越来越广泛，而SLOC(Single LayerOn Cell，单层图案在玻璃上)产品的触控显示面板因工艺制程简单具有较大优势。目前SLOC产品的制作流程是：正常制作阵列基板和彩膜基板后，对盒形成显示面板；对盒完成后，在彩膜基板远离阵列基板的一侧制作触控感应层。

目前，触控感应层的制作方法包括：在彩膜基板远离阵列基板的一侧沉积一层ITO(氧化铟锡)层，然后在ITO层上涂布一层正性光刻胶，经过曝光、刻蚀、剥离工艺后形成ITO网线，ITO网线与外部控制电路连接后实现触控功能，然而目前的SLOC产品由于偏光片或保护膜与外部电路连接存在一定的间隙，导致SLOC产品的客户端及信赖性评价过程中容易爆发水汽腐蚀ITO网线，进而导致触控功能失效。

本申请的发明人发现，目前防止触控功能失效采用的方法是在偏光片或保护膜与外部电路连接的间隙处制作一层低温保护层，该低温保护层完全覆盖ITO网线，以保护ITO网线免受水汽的腐蚀，但是，本申请的发明人发现，目前制作低温保护层时存在曝光失败的问题，从而影响低温保护层的制作。

发明内容

有鉴于此，本申请的目的旨在提供一种掩膜板、彩膜基板、显示面板、显示装置，用以顺利制作SLOC产品的低温保护层。

为了实现上述目的，本申请提供以下技术方案：

第一方面，提供一种掩膜板，用于制作黑矩阵和间距测试平台，包括第一透光区、第二透光区和非透光区；

第一透光区设置在需要制作黑矩阵的位置；第二透光区设置在需要制作间距测试平台的位置；

间距测试平台用于遮挡待制作膜层下方的金属走线。

可选地，第二透光区位于掩膜板的边缘区域。

可选地，第二透光区的个数为四个。

可选地，所有的第二透光区的面积相等。

可选地，第二透光区沿第一方向的长度为3毫米到5毫米，沿第二方向的长度为6毫米到8毫米。

可选地，待制作膜层包括低温保护层和/或触控感应层。

第二方面，提供一种彩膜基板，包括衬底基板、位于衬底基板上的黑矩阵和位于黑矩阵上方的彩膜层，该彩膜基板还包括间距测试平台；

间距测试平台位于衬底基板的边缘区域，用于遮挡待制作膜层下方的金属走线。

可选地，间距测试平台的材料与黑矩阵的材料相同，且与黑矩阵位于同一层。

可选地，间距测试平台的个数为四个，与制作待制作膜层的掩膜板设置的间距测试窗口的位置一一对应。

可选地，间距测试平台关于衬底基板的对称轴对称设置。

可选地，所有的间距测试平台的面积相等。

可选地，间距测试平台沿第一方向的长度为3毫米到5毫米，沿第二方向的长度为6毫米到8毫米。