[实用新型]一种掩膜板、彩膜基板、显示面板、显示装置有效
| 申请号： | 201920017266.5 | 申请日： | 2019-01-04 |
| 公开（公告）号： | CN209044565U | 公开（公告）日： | 2019-06-28 |
| 发明（设计）人： | 万彬;熊强;黎敏 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;重庆京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G06F3/041 | 分类号： | G06F3/041;G03F1/00 |
| 代理公司： | 北京市立方律师事务所 11330 | 代理人： | 张筱宁 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 制作 膜层 测试平台 金属走线 透光区 近接式曝光 掩膜板 遮挡 彩膜基板 显示面板 显示装置 黑矩阵 低温保护层 非透光区 反光 申请 | ||
1.一种掩膜板，用于制作黑矩阵和间距测试平台，其特征在于，包括第一透光区、第二透光区和非透光区；
所述第一透光区设置在需要制作黑矩阵的位置；所述第二透光区设置在需要制作间距测试平台的位置；
所述间距测试平台用于遮挡待制作膜层下方的金属走线。
2.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述第二透光区位于掩膜板的边缘区域。
3.根据权利要求2所述的掩膜板，其特征在于，所述第二透光区的个数为四个。
4.根据权利要求3所述的掩膜板，其特征在于，所有的所述第二透光区的面积相等。
5.根据权利要求4所述的掩膜板，其特征在于，所述第二透光区沿第一方向的长度为3毫米到5毫米，沿第二方向的长度为6毫米到8毫米。
6.根据权利要求1-5任一项所述的掩膜板，其特征在于，所述待制作膜层包括低温保护层和/或触控感应层。
7.一种彩膜基板，包括衬底基板、位于所述衬底基板上的黑矩阵和位于所述黑矩阵上方的彩膜层，其特征在于，还包括间距测试平台；
所述间距测试平台位于所述衬底基板的边缘区域，用于遮挡待制作膜层下方的金属走线。
8.根据权利要求7所述的彩膜基板，其特征在于，所述间距测试平台的材料与所述黑矩阵的材料相同，且与所述黑矩阵位于同一层。
9.根据权利要求8所述的彩膜基板，其特征在于，所述间距测试平台的个数为四个，与制作所述待制作膜层的掩膜板设置的间距测试窗口的位置一一对应。
10.根据权利要求9所述的彩膜基板，其特征在于，所述间距测试平台关于所述衬底基板的对称轴对称设置。
11.根据权利要求7-10任一项所述的彩膜基板，其特征在于，所有的所述间距测试平台的面积相等。
12.根据权利要求11所述的彩膜基板，其特征在于，所述间距测试平台沿第一方向的长度为3毫米到5毫米，沿第二方向的长度为6毫米到8毫米。
13.根据权利要求11所述的彩膜基板，其特征在于，所述待制作膜层包括低温保护层和/或触控感应层。
14.一种显示面板，其特征在于，包括如权利要求7-13任一项所述的彩膜基板和与所述彩膜基板相对设置的阵列基板。
15.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求14所述的显示面板。
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