[发明专利]显示基板及其制备方法、显示装置

说明书

本发明提供一种显示基板及其制备方法、显示装置。该显示基板包括基底以及设置在所述基底上的像素界定层，所述像素界定层形成有开槽区，所述显示基板还包括设置在所述开槽区所在位置处的发光器件、覆盖所述发光器件以及所述像素界定层的薄膜封装层，其特征在于，所述显示基板还包括设置在所述薄膜封装层背向所述基底一侧的光电传感器件，所述光电传感器件在所述基底的正投影与所述像素界定层在所述基底的正投影交叠，所述光电传感器件在所述基底的正投影与所述开槽区在所述基底的正投影无交叠。该显示基板的制备工艺简单，且所参与形成的显示装置的结构设计简单。

技术领域

本发明涉及显示技术领域，更具体地，涉及一种显示基板、一种显示装置、一种显示基板的制备方法。

背景技术

现有显示装置中，会采用光电传感器件检测环境光亮度，然后根据环境光亮度自动调节显示面板的最大亮度。光电传感器件与显示面板或者与显示基板二者是分立的元件，成本过高，且增加显示装置结构设计的难度。

发明内容

本发明提供一种显示基板、一种显示装置、一种显示基板的制备方法，以至少部分解决现有技术中存在的技术问题。

根据本发明第一方面，提供一种显示基板，包括基底以及设置在所述基底上的像素界定层，所述像素界定层形成有开槽区，所述显示基板还包括设置在所述开槽区所在位置处的发光器件、覆盖所述发光器件以及所述像素界定层的薄膜封装层，所述显示基板还包括设置在所述薄膜封装层背向所述基底一侧的光电传感器件，所述光电传感器件在所述基底的正投影与所述像素界定层在所述基底的正投影交叠，所述光电传感器件在所述基底的正投影与所述开槽区在所述基底的正投影无交叠。

在一些实施例中，所述光电传感器件包括依次远离所述基底且叠置的第一电极、PIN结、第二电极。

在一些实施例中，所述光电传感器件的第一电极连为一体，所述光电传感器件的PIN结极连为一体，所述光电传感器件的第二电极连为一体。

在一些实施例中，所述第二电极为透明电极，所述第一电极为反光电极。

在一些实施例中，所述光电传感器件与所述像素界定层二者边界平齐。

在一些实施例中，所述发光器件为有机发光二极管或量子点发光二极管。

根据本发明第二方面，提供一种显示装置，包括第一方面的显示基板。

根据本发明第三方面，提供一种显示基板的制备方法，包括：提供基底，并在所述基底上形成像素界定层，所述像素界定层形成有开槽区，以及在所述开槽区所在位置处形成发光器件；形成覆盖所述发光器件以及所述像素界定层的薄膜封装层；在所述薄膜封装层上形成光电传感器件，其中，所述光电传感器件在所述基底的正投影与所述像素界定层在所述基底的正投影交叠，所述光电传感器件在所述基底的正投影与所述开槽区在所述基底的正投影无交叠。

在一些实施例中，所述光电传感器包括依次远离所述基底且叠置的第一电极、PIN结、第二电极，所述在所述薄膜封装层上形成光电传感器件包括：在所述薄膜封装层上依次形成第一电极材料层、PIN结材料层、第二电极材料层；利用一次光刻工艺对所述第一电极材料层、所述PIN结材料层、所述第二电极材料层进行处理以得到所述第一电极、所述PIN结、所述第二电极。

在一些实施例中，采用第一掩模板利用光刻工艺形成所述像素界定层，并且在形成所述第一电极、所述PIN结、所述第二电极的光刻工艺中采用所述第一掩模板。

附图说明

图1为本发明的实施例的显示基板的俯视透视图。

图2为图1所示显示基板的层叠结构示意图。

图3为本发明的实施例的显示基板的制备方法的流程图。

图4为本发明的实施例的显示装置的工作原理示意图。