[发明专利]一种发光二极管及其制作方法有效

专利信息
申请号: 201911122389.6 申请日: 2019-11-15
公开(公告)号: CN110911534B 公开(公告)日: 2021-10-29
发明(设计)人: 陈柏羽;邓有财;张中英 申请(专利权)人: 厦门三安光电有限公司
主分类号: H01L33/38 分类号: H01L33/38;H01L33/46;H01L33/54
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 361100 福建省厦门市*** 国省代码: 福建;35
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摘要:
搜索关键词: 一种 发光二极管 及其 制作方法
【权利要求书】:

1.一种发光二极管,包含:

外延发光层,外延发光层包括第一半导体层、第二半导体层和位于两者之间的有源层,与第一半导体层连接有第一电极,与第二半导体层连接有第二电极,

其特征在于,第一电极和/或第二电极依次包括第一反射层、接垫层和至少部分包覆接垫层的第二反射层,第一反射层为铂,第二反射层包括莫氏硬度不小于6的材料,第一反射层上包覆有应力调整层,应力调整层材料为钌,应力调整层的成膜应力方向与第一反射层相反,应力调整层的莫氏硬度不小于6,应力调整层为第一反射层厚度的65%至75%。

2.根据权利要求1所述的一种发光二极管,其特征在于,第一电极和/或第二电极的截面为梯形,梯形侧壁与水平面的夹角为60°至75°,或者为75°至80°,或者80°以上。

3.根据权利要求1所述的一种发光二极管,其特征在于,发光二极管的芯片尺寸不大于250微米*250微米。

4.根据权利要求1所述的一种发光二极管,其特征在于,发光二极管具有从2微米到100微米或从100微米到250微米的长度。

5.根据权利要求1所述的一种发光二极管,其特征在于,发光二极管具有从2微米到100微米或从100微米到250微米的宽度。

6.根据权利要求1所述的一种发光二极管,其特征在于,第二反射层远离接垫层的一侧至少覆盖有绝缘保护层。

7.根据权利要求6所述的一种发光二极管,其特征在于,绝缘保护层的材料包括氧化硅、氮化硅、氧化铝、氮化铝、氧化钛、氧化铌或者氮化钛。

8.根据权利要求1所述的一种发光二极管,其特征在于,接垫层的材料包括金。

9.根据权利要求1所述的一种发光二极管,其特征在于,在外延发光层与第一反射层之间具有接触层,第一反射层至少部分包覆接触层。

10.根据权利要求9所述的一种发光二极管,其特征在于,接触层的材料包括铬或者铬与过渡金属的合金。

11.根据权利要求1所述的一种发光二极管,其特征在于,应力调整层的杨氏模量不小于150Gpa且体积模量不小于200Gpa。

12.根据权利要求1所述的一种发光二极管,其特征在于,第一反射层和/或应力调整层的电阻率小于130nΩm。

13.根据权利要求1所述的一种发光二极管,其特征在于,第一反射层与第二反射层的最小间距为200埃至250埃,或者为不小于250埃。

14.根据权利要求1所述的一种发光二极管,其特征在于,第一反射层与第二反射层均与外延发光层表面接触,在外延发光层上的间距为200埃至250埃,或者为不小于250埃。

15.根据权利要求1所述的一种发光二极管,其特征在于,第一反射层的厚度为不小于500埃。

16.根据权利要求1所述的一种发光二极管,其特征在于,第二反射层的厚度为不小于200埃。

17.根据权利要求1所述的一种发光二极管,其特征在于,第一反射层和/或第二反射层在400纳米至700纳米波段的反射率不小于45%。

18.根据权利要求1所述的一种发光二极管,其特征在于,发光二极管为正装发光二极管、倒装发光二极管或者垂直发光二极管。

19.根据权利要求1所述的一种发光二极管,其特征在于,第二反射层的材料包括钌或者铑。

20.根据权利要求1所述的一种发光二极管,其特征在于,第一反射层和/或第二反射层包括的材料具有不小于150Gpa的杨氏模量和不小于200Gpa的体积模量。

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