[发明专利]电源供应装置、半导体工艺系统与电源管理方法在审
申请号: | 201911037896.X | 申请日: | 2019-10-29 |
公开(公告)号: | CN112751406A | 公开(公告)日: | 2021-05-04 |
发明(设计)人: | 江政鸿;刘志庆;林威庭;张耀明 | 申请(专利权)人: | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
主分类号: | H02J9/06 | 分类号: | H02J9/06 |
代理公司: | 隆天知识产权代理有限公司 72003 | 代理人: | 宋洋;黄艳 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 电源 供应 装置 半导体 工艺 系统 管理 方法 | ||
1.一种电源供应装置,包括:
一电源单元,包括并联配置的一第一电源供应器以及一第二电源供应器,该第一电源供应器和该第二电源供应器分别提供一第一输出电源以及一第二输出电源至一半导体工艺设备;
一电源感测器,用以感测该第一输出电源以及该第二输出电源的一输出参数是否小于一预设值;以及
一控制单元,当该电源感测器感测到该第一输出电源与该第二输出电源的该输出参数中的一者小于该预设值时,则该电源供应装置进入一紧急备援模式,并且该控制单元使得该第一电源供应器与该第二电源供应器中的另一者提供一备用电源至该半导体工艺设备,其中,该备用电源的该输出参数大于该第一输出电源以及该第二输出电源的该输出参数。
2.如权利要求1所述的电源供应装置,其中,该第一电源供应器以及该第二电源供应器的每一者还包括一电源供应单元以及一转换单元,该转换单元耦接该电源供应单元,用以将该电源供应单元所提供的一外部电源转换为一直流电源。
3.如权利要求2所述的电源供应装置,其中,该第一电源供应器以及该第二电源供应器的每一者还包括一功率平衡单元,该功率平衡单元耦接该转换单元,以负载平衡模式检测该直流电源并且对该转换单元进行反馈控制以产生该第一输出电源或该第二输出电源。
4.如权利要求1所述的电源供应装置,其中,该电源供应装置还包括至少一整流器,该至少一整流器配置于该电源单元以及该半导体工艺设备之间,用以将该第一输出电源以及该第二输出电源的方向调节为从该电源单元输送至该半导体工艺设备。
5.如权利要求1所述的电源供应装置,其中,当该控制单元并未在一预设时间内接收到来自该电源感测器的感测结果时,则该控制单元判断该电源供应装置进入该紧急备援模式。
6.如权利要求1所述的电源供应装置,其中,该电源供应装置还包括一警示单元,当该电源供应装置进入该紧急备援模式时,该控制单元传送一警示信号至该警示单元,使得该警示单元发出一警示声音或一警示图案。
7.一种半导体工艺系统,包括:
一半导体工艺设备;以及
如权利要求1所述的电源供应装置,其中,该半导体工艺设备使用该第一电源供应器所输出的该第一输出电源及/或该第二电源供应器所输出的该第二输出电源执行一半导体工艺。
8.如权利要求7所述的半导体工艺系统,其中,该半导体工艺为一化学电镀沉积工艺,并且该第一输出电源及/或该第二输出电源用以对该半导体工艺设备中的一镀件进行偏压。
9.如权利要求7所述的半导体工艺系统,其中,该半导体工艺为曝光工艺,并且该第一输出电源及/或该第二输出电源用以激发该半导体工艺设备的一电磁辐射,使得该电磁辐射穿越一掩模。
10.一种电源管理方法,应用于一半导体工艺系统的一电源供应装置,该电源管理方法包括:
并联配置该电源供应装置的一第一电源供应器以及一第二电源供应器,该第一电源供应器和该第二电源供应器分别提供一第一输出电源以及一第二输出电源至该半导体工艺系统的一半导体工艺设备;
感测该第一输出电源以及该第二输出电源的一输出参数是否小于一预设值;
当该电源感测器感测到该第一输出电源以及该第二输出电源的该输出参数均大于该预设值时,则该电源供应装置进入一正常操作模式;以及
当该电源感测器感测到该第一输出电源与该第二输出电源的该输出参数中的一者小于该预设值时,则该电源供应装置进入一紧急备援模式,并且使该第一电源供应器与该第二电源供应器中的另一者提供一备用电源至该半导体工艺设备,其中,该备用电源的该输出参数大于该第一输出电源以及该第二输出电源的该输出参数。
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