[发明专利]运动机构及具有其的离子注入机

说明书

本公开涉及半导体储存器技术领域，提出了一种运动机构及具有其的离子注入机，运动机构包括操纵器、连杆以及防护件，连杆设置在反应腔的内部，操纵器位于反应腔的外部，操纵器与连杆驱动连接，以驱动连杆相对于反应腔活动；防护件用于设置在反应腔的内部，防护件具有防护腔，连杆穿设在防护腔内，且与防护件相连接，以带动防护件活动。本公开的运动机构通过操纵器驱动连杆在反应腔的内部活动，而防护件的设置可以避免反应腔内部的反应物附着于连杆上，其应用于真空与大气之间，可以使得反应腔更易维持高真空。

技术领域

本公开涉及半导体储存器技术领域，尤其涉及一种运动机构及具有其的离子注入机。

背景技术

高电流离子注入机设备包括电极(Electrode)、电极操纵器(Manipulator)以及连杆(shaft)，电极安装于离子注入机的源室(source chamber)内，通过施加高电压将离子束流从离子源吸出；Manipulator安装于source chamber下方，可在前后、上下方向上调整electrode位置，使electrode最大限度将离子束流从离子源吸出；Manipulator通过一根shaft连接electrode，shaft上半部分位于真空环境，下半部分位于大气环境。shaft在上下方向运动时，由两个位置固定的密封圈(lip seal)来阻隔真空与大气，且两个lip seal之间会有一根气管连到真空泵。这种构造可以保证shaft运动时source chamber仍能保持高真空。

离子源内气体电离后，除被吸走的离子束流外，剩余离子及残余气体会与sourcechamber内金属、石墨件反应生成反应物附着在chamber内以及shaft表面，chamber内金属及石墨在高温下也会产生大小不一的污染物落在chamber内。而shaft带着附着物还要上下运动与lip seal摩擦，长此以往shaft与lip seal之间空隙会不断变大，source chamber难以维持高真空，设备稳定性降低，产品良率也会因此受到影响。

发明内容

本公开的一个主要目的在于克服上述现有技术的至少一种缺陷，提供一种运动机构及具有其的离子注入机。

根据本发明的第一个方面，提供了一种运动机构，包括：

操纵器；

连杆，连杆设置在反应腔的内部，操纵器位于反应腔的外部，操纵器与连杆驱动连接，以驱动连杆相对于反应腔活动；

防护件，防护件用于设置在反应腔的内部，防护件具有防护腔，连杆穿设在防护腔内，且与防护件相连接，以带动防护件活动。

在本发明的一个实施例中，防护件靠近操纵器的一端用于与反应腔的腔壁相连接，防护件远离操纵器的另一端与连杆相连接。

在本发明的一个实施例中，防护件与连杆焊接或通过第一紧固件相连接；

和/或，防护件与反应腔的腔壁焊接或通过第二紧固件相连接。

在本发明的一个实施例中，防护件与连杆之间具有第一间隙，运动机构还包括：第一密封件，第一密封件套设在连杆上，用于密封第一间隙；

和/或，防护件与反应腔的腔壁之间具有第二间隙，运动机构还包括：第二密封件，第二密封件设置在反应腔的腔壁上，用于密封第二间隙。

在本发明的一个实施例中，防护件的两端分别包括套筒段和基底段，套筒段套设在连杆上，且与连杆的周向外边缘固定连接，基底段与反应腔的腔壁相对且固定连接。

在本发明的一个实施例中，防护件还包括：

主体段，主体段的两端分别连接套筒段和基底段，套筒段、主体段以及基底段的内腔形成了防护腔，主体段为波纹管段；

其中，主体段与套筒段相连接的一端所围成的面积小于主体段与基底段相连接的另一端所围成的面积。