[发明专利]半导体装置有效
申请号: | 201910873504.7 | 申请日: | 2015-04-13 |
公开(公告)号: | CN110517967B | 公开(公告)日: | 2023-03-31 |
发明(设计)人: | 藏本雅史;井村俊文;谷定知季 | 申请(专利权)人: | 日亚化学工业株式会社 |
主分类号: | H01L21/60 | 分类号: | H01L21/60;H01L33/50;H01L33/56 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 张毅群 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 半导体 装置 | ||
1.一种半导体装置,其是通过粘接材料使半导体元件粘接在基体上而成的半导体装置,所述粘接材料包含形成于所述半导体元件的外侧的焊角,其中,
所述粘接材料含有经表面处理后的粒子或与分散剂共存的粒子,
所述粒子为粒径1nm以上且100nm以下的纳米粒子,
所述粘接材料包含攀升于所述半导体元件的侧面而设置的攀升部,
在所述粘接材料的所述焊角的边缘部的弯月形端部中,所述粒子的粒子浓度局部地升高。
2.如权利要求1所述的半导体装置,其中,
所述攀升部的至少一部分是所述粒子偏在的区域。
3.如权利要求2所述的半导体装置,其中,所述粒子偏在的区域是所述攀升部的全部。
4.如权利要求1~3中任一项所述的半导体装置,其中,所述粒子的粒子浓度局部地升高的部分是所述焊角的边缘部的整周。
5.如权利要求1~3中任一项所述的半导体装置,其中,所述粘接材料中的所述粒子的含量为0.1重量%以上且50重量%以下。
6.如权利要求1~3中任一项所述的半导体装置,其中,所述粒子还存在于所述粘接材料的外缘。
7.如权利要求1~3中任一项所述的半导体装置,其中,
所述粘接材料的母材为环氧树脂、硅树脂或者它们的改性树脂或杂化树脂,
所述粒子任选自氧化硅、氧化铝、氧化锆、氧化钛。
8.如权利要求1~3中任一项所述的半导体装置,其中,所述粒子为氧化铝、氮化铝、氮化硼、氮化硅中的至少一种。
9.如权利要求1~3中任一项所述的半导体装置,其中,俯视时所述半导体元件的侧面与所述粘接材料的边缘部的最长距离为所述半导体元件的最长尺寸的50%以下。
10.如权利要求1~3中任一项所述的半导体装置,其中,
所述半导体元件为发光元件,
所述粘接材料具有透光性。
11.如权利要求1~3中任一项所述的半导体装置,其中,
所述半导体装置具备封装所述半导体元件的封装构件,
所述半导体元件为发光元件,
所述封装构件含有荧光体,所述荧光体偏在于所述封装构件中的所述半导体元件侧。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于日亚化学工业株式会社,未经日亚化学工业株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201910873504.7/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造