[发明专利]一种低应力碳化硅单晶的籽晶安装装置及晶体生长工艺有效

专利信息
申请号: 201910762897.4 申请日: 2019-08-19
公开(公告)号: CN110541195B 公开(公告)日: 2021-02-26
发明(设计)人: 路亚娟;杨昆;牛晓龙;刘新辉;张福生 申请(专利权)人: 河北同光晶体有限公司
主分类号: C30B23/00 分类号: C30B23/00;C30B29/36
代理公司: 北京盛询知识产权代理有限公司 11901 代理人: 张海青
地址: 071000 *** 国省代码: 河北;13
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 应力 碳化硅 籽晶 安装 装置 晶体生长 工艺
【权利要求书】:

1.一种低应力碳化硅单晶的籽晶安装装置,其特征在于,其包括坩埚(4)、坩埚盖(1)、固定安装于所述坩埚(4)内壁上的环形石墨托(3)、边缘搭接在所述环形石墨托(3)上的耐高温支架环(2);碳化硅籽晶(6)非生长面覆置有高纯石墨超微细粉胶膜(5);所述高纯石墨超微细粉胶膜(5)上表面粘接于所述耐高温支架环(2)的下表面;

所述耐高温支架环(2)材质为石墨纸、钽箔、钼箔、钨片;

所述耐高温支架环(2)厚度为0.05-0.5mm;内径为19/20D-4/5D,外径为21/20D-6/5D;所述D为籽晶直径。

2.一种利用权利要求1所述的低应力碳化硅单晶的籽晶安装装置进行的晶体生长工艺,其特征在于,包括如下步骤:

a)利用喷涂胶的方式在籽晶(6)非生长面形成厚度均匀,交联致密的高纯石墨超微细粉胶膜(5);

b)在压力0.08-0.12mbar以下、温度范围180-230℃的条件下预烧结2-2.2h,升温速率为1℃/min,以使高纯石墨超微细粉胶固化所产生的有机气体顺利排除;

c)在压力0.08-0.12mbar以下,环境温度为700-1000℃的条件下加热3-5h,使高纯石墨超微细粉胶膜(5)碳化;

d)在上述高纯石墨超微细粉胶膜(5)的上面粘接耐高温支架环(2);

e)在坩埚(4)中加入碳化硅粉料(8);

f)将耐高温支架环(2)搭接在所述环形石墨托(3)上,从而固定籽晶(6);

g)加热使碳化硅粉料(8)升华,在籽晶(6)上进行碳化硅单晶(7)的结晶生长。

3.根据权利要求1所述的低应力碳化硅单晶的籽晶安装装置,其特征在于,所述高纯石墨超微细粉胶膜(5)包括高纯石墨超微细粉40-50重量份、表面活性剂18-23重量份、改性酚醛树脂3-8重量份。

4.根据权利要求1所述的低应力碳化硅单晶的籽晶安装装置,其特征在于,所述高纯石墨超微细粉胶膜(5)的制备方法如下,按照配比将高纯石墨超微细粉、表面活性剂、改性酚醛树脂混合均匀后制成高纯石墨超微细粉胶,然后用真空脱泡机处理7-8h。

5.根据权利要求2所述的晶体生长工艺,其特征在于,步骤d)中用聚酰亚胺粘接耐高温支架。

6.根据权利要求1所述的低应力碳化硅单晶的籽晶安装装置,其特征在于,所述籽晶非生长面与坩埚盖(1)的距离5μm≤L≤20mm。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于河北同光晶体有限公司,未经河北同光晶体有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201910762897.4/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top