[发明专利]掩模板及其制作方法、以及采用掩模板进行图案化的方法

权利要求书

1.一种掩模板，包括：

第一开口，

其中，所述第一开口被配置为图案化功能基板的光学胶层以形成第一保护层，所述第一保护层覆盖所述功能基板的功能区域；

所述功能基板还包括衬底基板和多条导线，所述多条导线在所述衬底基板上的正投影落入所述第一保护层在所述衬底基板上的正投影，

N种所述功能基板中的每一种的所述第一保护层在第一方向上的尺寸为L_i，所述N种功能基板中的每一种的所述导线的宽度W_i；

所述第一开口在所述第一方向上的尺寸X大于所述N种功能基板中的所述W_i中数值最小的所述功能基板的所述第一保护层在所述第一方向上的尺寸L_min1，所述功能基板还包括绑定区域，所述第一方向垂直于从所述功能区域到所述绑定区域的方向，

N为大于等于3的正整数，i为大于等于1且小于等于N的正整数。

2.根据权利要求1所述的掩模板，其中，相邻两个所述导线之间的间隔宽度为S_i，所述第一开口在所述第一方向上的尺寸X大于所述N种功能基板中的所述S_i中数值最小的所述功能基板的所述第一保护层在所述第一方向上的尺寸L_min2。

3.根据权利要求1所述的掩模板，其中，所述第一开口在所述第一方向上的尺寸X大于所述N种功能基板中的所述L_i的中位数L_m。

4.根据权利要求1-3中任一项所述的掩模板，其中，所述N种功能基板中的每一种的所述第一保护层在第二方向上的尺寸D_i，所述第一开口在所述第二方向上的尺寸Y大于所述N种功能基板中的W_i中数值最小的所述功能基板的所述第一保护层在所述第二方向上的尺寸D_min1，

所述第二方向与所述第一方向垂直。

5.根据权利要求4所述的掩模板，其中，相邻两个所述导线之间的间隔宽度为S_i，所述第一开口在所述第二方向上的尺寸Y大于所述N种功能基板中的S_i中数值最小的所述功能基板的所述第一保护层在所述第二方向上的尺寸D_min2。

6.根据权利要求4所述的掩模板，其中，所述第一开口在所述第二方向上的尺寸Y大于所述N种功能基板中的所述D_i的中位数D_m。

7.根据权利要求1-3中任一项所述的掩模板，还包括：

第二开口，被配置为图案化所述功能基板的所述光学胶层以形成位于所述功能基板的角落的块状图形，所述块状图形覆盖所述功能基板的对位标记；以及

第三开口，被配置为图案化所述功能基板的光学胶层以形成第二保护层，所述第二保护层位于所述绑定区域远离所述第一保护层的一侧，且与所述第一保护层相连接。

8.一种采用根据权利要求1-7中任一项所述的掩模板进行图案化的方法，包括：采用所述掩模 板对N种功能基板的光学胶层进行图案化。

9.根据权利要求8所述的采用掩模板进行图案化的方法，还包括：

将大板划分为多个子板；

以所述子板的第一中心为基准，将所述第一开口的第二中心与所述第一中心对准；以及

以所述掩模板为掩模对所述子板进行曝光工艺。