[发明专利]一种挡板上钼及其氧化物的清洗工艺

说明书

本发明公开了一种挡板表面钼及其氧化物的清洗工艺，包括如下步骤：使用H₂O₂溶液对挡板表面沉积膜进行浸泡清洗；使用碱性药液对挡板表面钼及其氧化物进行浸泡；使用高压水对挡板进行冲洗；对挡板表面喷砂处理；使用高压水对挡板进行冲洗；对挡板进行干冰清洗；对挡板进行超声波清洗；对完成清洗后的部件进行干燥，该工艺解决了现有技术存在的酸液对部件本体造成较大损伤、危险性大的问题，可以有效去除挡板表面的钼及其氧化物，且不会对挡板造成损伤。

技术领域

本发明涉及表面处理领域，具体涉及一种挡板上钼及其氧化物的清洗工艺。

背景技术

在LCD、OLED显示屏TFT制作过程中，为降低外围导引线的阻抗或为了便于模组段的FPC键合，在TFT薄膜中溅射一种金属钼Mo或其氧化物MoOx，在溅射过程中这种材料会不断地在腔体内的挡板上进行沉积，随着沉积物厚度的增加，沉积膜与挡板的附着力会降低，沉积膜可能会脱落污染腔体，出现黑点、短路等缺陷，影响LCD、OLED显示屏的显示质量，所以需要对腔体内裸露于工艺环境中的部件进行精密再生，延长部件的使用寿命，确保制程环境满足显示屏制程工艺要求，提升产品质量，降低客户端制程成本。

针对钼Mo及其氧化物(MoOx)的沉积膜通常的清洗方法是使用HNO₃/H₂SO₄/HF等酸液或混合酸进行浸泡清洗，后对表面喷砂处理，再使用去离子水进行清洗，最后进入洁净干燥箱进行干燥。该清洗过程中使用的酸液易挥发，危险性较大，尤其HF具有腐蚀性，对清洗设备及槽体、废气处理等辅助设施人员防护要求较高，且清洗时间较长，酸液容易对部件本体造成较大损伤，且后续表面处理后，用于表面处理的砂粒不易完全清洗干净，会造成部件表面粒子超标，影响部件使用性能。

发明内容

本发明解决了现有技术存在的酸液对部件本体造成较大损伤、危险性大的问题，提供一种挡板上钼及其氧化物的清洗工艺，其应用时可以有效去除附着于金属钛、塑料、陶瓷部件表面的钼Mo及其氧化物MoOx薄膜，避免对部件本体造成较大损伤。

本发明通过下述技术方案实现：

一种挡板表面钼及其氧化物的清洗工艺，包括如下步骤：

S1：使用H₂O₂溶液对挡板表面沉积膜进行浸泡清洗；

S2：使用碱性药液对挡板表面钼及其氧化物进行浸泡；

S3：使用高压水对挡板进行冲洗；

S4：对挡板进行干燥后，对表面喷砂处理；

S5：使用高压水对挡板进行冲洗；

S6：对挡板进行干冰清洗；

S7：对挡板进行超声波清洗；

S8：对完成清洗后的部件进行干燥。

优选的，所述H₂O₂溶液的质量分数为20-40％，所述挡板的浸泡时间为2～3h，然后使用纯水对药液浸泡完成的产品进行清洗，该步骤在清洗槽完成。钼Mo及其氧化物MoOx与双氧水反应生产高钼酸，其化学反应过程如下：

H₂O₂+Mo→H₂MoO_X+O2↑

因H₂O₂不会与塑料、陶瓷反应，与金属反应时在表面形成一层很薄、很致密的氧化膜，阻止其进一步反应，所以H₂O₂基本不会对基材(金属、塑料、陶瓷等)的部件造成腐蚀。

使用碱性药液对挡板表面钼及其氧化物进行清洗，该步骤在碱液槽进行；