[发明专利]显示面板的制备方法、显示面板及显示装置在审

专利信息
申请号: 201910667191.X 申请日: 2019-07-23
公开(公告)号: CN110429114A 公开(公告)日: 2019-11-08
发明(设计)人: 向明 申请(专利权)人: 武汉华星光电半导体显示技术有限公司
主分类号: H01L27/32 分类号: H01L27/32;H01L51/52;H01L21/77
代理公司: 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 代理人: 黄威
地址: 430079 湖北省武汉市东湖新技术*** 国省代码: 湖北;42
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 显示面板 制备 辅助电极 阴极 无机绝缘层 介电层 图案化 栅极绝缘层 显示装置 走线层 电容 源漏 维持辅助电极 电致发光层 栅极金属层 阴极电压 阳极 定义层 缓冲层 均匀性 平坦化 像素化 有机层 基板
【说明书】:

发明实施例公开了一种显示面板的制备方法、显示面板及显示装置,该显示面板的制备方法包括:在基板上依次形成缓冲层、源漏级、栅极绝缘层、栅极金属层和介电层;在所述显示面板的栅极绝缘层和介电层内部形成第一过孔,并在所述第一过孔内部及所述介电层上方形成源漏级走线层和辅助电极;在所述辅助电极上制备图案化无机绝缘层;在所述图案化无机绝缘层上依次制备平坦化有机层、阳极走线层、像素化定义层、电致发光层和阴极,所述阴极、图案化无机绝缘层与所述辅助电极形成电容。该方法制备的显示面板中阴极与辅助电极之间形成电容,通过维持辅助电极电压的稳定,进而维持显示面板阴极电压的稳定,提高了显示面板亮度的均匀性。

技术领域

本发明涉及显示技术领域,具体涉及一种显示面板的制备方法、显示面板及显示装置。

背景技术

有机发光二极管(Organic Light-Emitting Diode,OLED)凭借自身的自发光特性,不像TFT LCD需要背光,因此可视度和亮度均高,其次是电压需求低且省电效率高,加上反应快、重量轻、厚度薄,构造简单,成本低等,已经成为21世纪最具前途的产品之一。

OLED显示面板中的Vss信号通过显示面板非显示区的源漏级走线层,传输到正面蒸镀的阴极层中,从而给显示区的像素阴极供电。但由于源漏级走线以及正面阴极压降的影响,导致在显示过程中,显示面板阴极电位分布不均,进而出现面板亮度不均匀的问题。

现有技术下,通过倒梯形的设计,可以使得阴极与辅助电极连接,进而提高阴极电位的均匀性。然而这种设计会使得无机封装层在倒梯形处出现断层,降低了封装薄膜阻隔水氧入侵的能力,同时,倒梯形需要使用负性光阻才能完成,增加了制程的复杂性以及生产成本。

发明内容

本发明针对现有技术下的显示面板制备方法制备得到的显示面板,显示面板显示不均,且降低了封装薄膜阻隔水氧入侵的能力,制程复杂且成本很高的问题,本发明实施例提供一种显示面板的制备方法、显示面板及显示装置。

为解决上述问题,第一方面,本申请提供一种显示面板的制备方法,所述方法包括:

在基板上依次形成缓冲层、源漏级、栅极绝缘层、栅极金属层和介电层;

在所述显示面板的栅极绝缘层和介电层内部形成第一过孔,并在所述第一过孔内部及所述介电层上方形成源漏级走线层和辅助电极;

在所述辅助电极上制备图案化无机绝缘层;

在所述图案化无机绝缘层上依次制备平坦化有机层、阳极走线层、像素化定义层、电致发光层和阴极,所述阴极、图案化无机绝缘层与所述辅助电极形成电容。

进一步的,所述在所述显示面板的栅极绝缘层和介电层内部上形成第一过孔,并在所述第一过孔内部及所述介电层上方形成源漏级走线层和辅助电极包括:

在所述栅极绝缘层内部和所述介电层内部通过刻蚀,形成所述第一过孔,所述第一过孔穿过所述栅极绝缘层和所述介电层;

在所述第一过孔内部及所述介电层上方沉积并蚀刻形成所述源漏级走线层;

在所述介电层上方除所述源漏级走线层外的其他区域形成所述辅助电极。

进一步的,所述在所述辅助电极上制备图案化无机绝缘层包括:

在所述辅助电极上方沉积并刻蚀形成所述图案化无机绝缘层,所述图案化无机绝缘层完全覆盖所述辅助电极。

进一步的,所述在所述图案化无机绝缘层上依次制备平坦化有机层、阳极走线层和像素化定义层包括:

在所述源漏级走线层上方除所述图案化无机绝缘层外的其他区域制备形成平坦化有机层;

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于武汉华星光电半导体显示技术有限公司,未经武汉华星光电半导体显示技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201910667191.X/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top