[发明专利]处理装置在审
| 申请号: | 201910489517.4 | 申请日: | 2019-06-06 |
| 公开(公告)号: | CN110600395A | 公开(公告)日: | 2019-12-20 |
| 发明(设计)人: | 花岛聪 | 申请(专利权)人: | 株式会社迪思科 |
| 主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67 |
| 代理公司: | 11127 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人: | 乔婉;于靖帅 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 台基 转矩 卡盘工作台 工作台 伺服电动机 被处理物 判定 处理装置 判定单元 记录 测量 处理单元 种类记录 装卸自如 输出 对卡盘 判定部 通知部 载置 | ||
1.一种处理装置,其特征在于,
该处理装置具有:
卡盘工作台,其具有载置被处理物的保持面,对该被处理物进行保持;
工作台基台,其供该卡盘工作台装卸自如地固定;
伺服电动机,其使该工作台基台绕旋转轴旋转,该旋转轴沿着与安装在该工作台基台上的该卡盘工作台的该保持面垂直的方向;
处理单元,其对该卡盘工作台所保持的该被处理物进行处理;以及
判定单元,其对安装在该工作台基台上的该卡盘工作台的种类进行判定,
该判定单元具有:
转矩记录部,其将当使该工作台基台旋转时该伺服电动机所输出的转矩按照安装在该工作台基台上的卡盘工作台的每个种类进行记录;
判定部,其对使安装有该卡盘工作台的该工作台基台旋转时的该伺服电动机所输出的转矩进行测量,将测量到的该转矩与记录在该转矩记录部中的各转矩进行比照,判定该卡盘工作台的种类;以及
通知部,其通知该判定部所实施的判定的结果。
2.根据权利要求1所述的处理装置,其特征在于,
该判定部所测量的该转矩是该工作台基台达到规定的转速为止的加速时的转矩和从规定的转速到停止为止的减速时的转矩中的一方或双方。
3.根据权利要求1或2所述的处理装置,其特征在于,
该处理单元是对该被处理物进行清洗的清洗单元。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造





