[发明专利]基于MEMS微镜扫描的VCSEL点阵光源系统在审

专利信息
申请号: 201910389436.7 申请日: 2019-05-10
公开(公告)号: CN109950793A 公开(公告)日: 2019-06-28
发明(设计)人: 王俊;刘恒;谭少阳 申请(专利权)人: 苏州长光华芯半导体激光创新研究院有限公司
主分类号: H01S5/183 分类号: H01S5/183;H01S5/06;G02B26/08;G02B26/10
代理公司: 苏州国诚专利代理有限公司 32293 代理人: 杨淑霞
地址: 215163 江苏省苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 正面电极 转轴 外延层 背面电极 点阵光源 衬底层 反射镜 成像 扫描 反射镜转动 激光器点阵 激光扫描 驱动机构 依次层叠 阵列形式 点阵 出射光 金属层 排布 投射 反射 垂直 驱动 发射
【权利要求书】:

1.一种基于MEMS微镜扫描的VCSEL点阵光源系统,其特征在于,所述VCSEL点阵光源系统包括:VCSEL激光器以及MEMS微镜;

所述VCSEL激光器包括:背面电极、衬底层、外延层、正面电极,所述正面电极、外延层、衬底层、背面电极自上而下依次层叠设置,所述正面电极为多个,多个正面电极以规则或者非规则阵列形式排布于所述外延层上,且多个正面电极通过金属层相连接,所述MEMS微镜位于所述VCSEL激光器的出射光路上,所述MEMS微镜包括:反射镜以及驱动所述反射镜转动的驱动机构,所述反射镜具有第一转轴以及第二转轴,所述第一转轴与所述第二转轴相垂直。

2.根据权利要求1所述的基于MEMS微镜扫描的VCSEL点阵光源系统,其特征在于,所述衬底层为导电的半导体衬底层。

3.根据权利要求1所述的基于MEMS微镜扫描的VCSEL点阵光源系统,其特征在于,所述外延层为高掺杂的半导体外延层。

4.根据权利要求1所述的基于MEMS微镜扫描的VCSEL点阵光源系统,其特征在于,任一所述外延层包括:上DBR结构、有源层结构以及下DBR结构,所述上DBR结构、有源层结构以及下DBR结构自上而下依次层叠设置。

5.根据权利要求1所述的基于MEMS微镜扫描的VCSEL点阵光源系统,其特征在于,所述驱动机构包括:金属线圈以及磁铁,所述金属线圈位于所述反射镜的外围,并与所述反射镜的四周边缘相抵靠,所述磁铁位于所述反射镜下方。

6.根据权利要求1所述的基于MEMS微镜扫描的VCSEL点阵光源系统,其特征在于,所述反射镜以第一转轴进行转动时,所述VCSEL激光器对扫描区域的一列进行扫描,所述反射镜以第二转轴进行转动时,所述VCSEL激光器对扫描区域的一行进行扫描。

7.根据权利要求6所述的基于MEMS微镜扫描的VCSEL点阵光源系统,其特征在于,通过控制MEMS微镜转动轴,实现所述VCSEL激光器对扫描区域的规则扫描或者非规则扫描。

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