[发明专利]等离子腔室及其基片承载装置

说明书

本发明提供了一种等离子腔室及其基片承载装置，基片承载装置包括：加热平台以及贯穿于所述加热平台的若干升降顶针；所述加热平台用于对待加工的基片提供热量；所述若干升降顶针用于将所述基片顶起脱离所述加热平台或落下将所述基片落于所述加热平台；其中，所述加热平台包括传热基体，所述升降顶针包括顶针杆以及顶针帽，所述顶针帽的导热系数大于所述顶针杆的导热系数，且所述顶针帽的导热系数大于等于或小于等于所述传热基体的导热系数。本发明能提高与基片接触的顶针帽的热传递性能，且顶针帽与传热基体的热传递性能接近，能使加热平台上表面的温度场分布均匀，进而传热到基片上的温度场分布均匀，提高基片上成膜的均匀性。

技术领域

本发明涉及等离子体加工设备技术领域，尤其涉及一种等离子腔室及其基片承载装置。

背景技术

近年来，显示装置，尤其是基于有机发光二极管(Organic Light EmittingDiode，OLED)的显示装置成为国内外热门的新兴平面显示产品。OLED显示面板具有自发光、视角广、反应时间短、发光效率高、色域广、工作电压低、面板薄、可制作大尺寸、可制作柔性面板、以及制程简单等特性，而且它还具有低成本的潜力。

OLED器件主要包括层叠设置的阳极、有机发光层和阴极。OLED器件的发光通过像素驱动电路中的晶体管在阳极上施加驱动电压，以在阳极与阴极之间形成电压差。

OLED器件中的各层以及晶体管的各层一般通过将基片置于等离子腔室内，采用等离子化学气相沉积工艺制成。而实际工艺所成的膜层经常出现厚度不均匀问题，这影响OLED显示面板的可靠性。

发明内容

本发明的发明目的是提供一种可提高沉积成膜均匀性的等离子腔室及其基片承载装置。

为实现上述目的，本发明提供一种基片承载装置，所述基片承载装置设置于等离子腔室内，包括：加热平台以及贯穿于所述加热平台的若干升降顶针；所述加热平台用于对待加工的基片提供热量；所述若干升降顶针用于将所述基片顶起脱离所述加热平台或落下将所述基片落于所述加热平台；

所述加热平台包括传热基体，所述升降顶针包括顶针杆以及顶针帽，所述顶针帽的导热系数大于所述顶针杆的导热系数，且所述顶针帽的导热系数大于等于或小于等于所述传热基体的导热系数。

可选地，所述顶针帽的导热系数与所述传热基体的导热系数的比值介于0.85～1.15；

优选地，所述顶针帽的导热系数与所述传热基体的导热系数的比值介于0.95～1.05。

可选地，所述顶针帽的导热系数与所述传热基体的导热系数相同；

优选地，所述顶针帽的材料与所述传热基体的材料相同；

优选地，所述材料为金属材料。

可选地，所述顶针帽的高度与所述加热平台的厚度之比的范围为：1/3～2/3。

可选地，所述顶针杆的材料为陶瓷。

可选地，所述顶针帽的最大外径大于所述顶针杆的最大外径；所述加热平台包括若干贯穿孔，所述贯穿孔包括沿所述顶针杆的延伸方向向外依次设置的细长孔与凹槽，且所述细长孔与所述凹槽连通，所述细长孔的形状与所述顶针杆的形状匹配，所述凹槽的形状与所述顶针帽的形状匹配；

优选地，所述顶针帽包括相对的连接端与自由端，所述顶针帽自所述连接端至自由端逐渐膨大呈倒梯形设置；相应地，所述凹槽沿所述顶针杆的延伸方向向外膨大呈倒梯形设置。

可选地，所述加热平台还包括位于所述传热基体内的若干圈加热线圈；

优选地，所述顶针帽的材料为金属材料，所述若干圈加热线圈的至少部分围绕所述顶针帽设置；

优选地，所述若干圈加热线圈的至少部分沿着所述顶针杆的延伸方向围绕所述顶针帽呈螺旋状排布。