[发明专利]一种宽光谱响应的InGaAs单光子雪崩光电二极管及其制造方法有效
| 申请号: | 201910280919.3 | 申请日: | 2019-04-09 |
| 公开(公告)号: | CN110071194B | 公开(公告)日: | 2021-11-16 |
| 发明(设计)人: | 王玺;黎淼;李传波;陈伟;高新江;张承;黄超意;何丰;马勇 | 申请(专利权)人: | 重庆邮电大学 |
| 主分类号: | H01L31/107 | 分类号: | H01L31/107;H01L31/0304;H01L31/02;H01L31/0216;H01L31/18 |
| 代理公司: | 重庆市恒信知识产权代理有限公司 50102 | 代理人: | 刘小红;陈栋梁 |
| 地址: | 400065 重*** | 国省代码: | 重庆;50 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 光谱 响应 ingaas 光子 雪崩 光电二极管 及其 制造 方法 | ||
本发明请求保护一种宽光谱响应的InGaAs单光子雪崩光电二极管,包括衬底,在所述衬底上设有短波透光窗口,在所述衬底一侧设有n电极,另一侧设有腐蚀截止层,在所述腐蚀截止层上依次设有InGaAs标准波长吸收层、长波吸收层、渐变层、电荷层、倍增层以及钝化层。在所述倍增层内设有阶梯型PN结,而在所述倍增层另一侧设有p电极和钝化层。所述p电极和阶梯型PN结、以及透光窗口三者处于同一轴线上。本发明采用长波吸收层对1700nm‑1800nm波长的光子进行吸收,同时通过衬底上的透光窗口,防止760nm‑900nm波段光子在衬底材料中被吸收。将InGaAs单光子雪崩光电二极管的响应波长范围从900nm‑1700nm拓展到760nm‑1800nm,为该波段范围内提供了单个光子的探测灵敏度。
技术领域
本发明属于光探测技术领域,特别涉及一种宽光谱响应的InGaAs单光子雪崩光电二极管。
背景技术
铟镓砷(InGaAs)单光子雪崩光电二极管是一种基于半导体材料的单光子探测器件,能实现对单个光子能量的检测,已广泛应用于量子通信、真随机数发生器、激光雷达、光时域反射计等领域。单光子雪崩光电二极管的工作原理是:当一个光子在二极管吸收区被吸收后,会产生初始电子空穴对,然后在电场的作用下,电子或空穴被输运到倍增区产生持续放大,从而产生可以被观测到的宏观电信号。
在光谱响应方面,通常InGaAs单光子雪崩光电二极管基于晶格匹配的In0.53Ga0.47As/InP结构,可以满足900nm-1700nm波段高效光响应要求。然而,受晶格匹配的In0.53Ga0.47As材料带隙的限制,该结构无法实现长波长波段(1700nm-1800nm)的光响应,需要引入高铟组分的InGaAs材料,减小吸收区材料的带隙,从而可以将光谱响应拓展到1800nm。不过,In组分增加后,高铟组分InGaAs材料的晶格常数不再与衬底匹配,这样的缺陷将会增加噪声,以至于无法达到单光子的灵敏度。另一方面,由于衬底对900nm以下光波的吸收作用,光生载流子在衬底材料中很快就会被复合,从而难以实现有效的电荷收集,所以这种结构的器件难以探测到900nm以下的光子。
发明内容
本发明旨在解决以上现有技术的问题。提出了一种可以在760nm-1800nm波段的实现单光子灵敏度的宽光谱响应的InGaAs单光子雪崩光电二极管及其制备方法。本发明的技术方案如下:
一种宽光谱响应的InGaAs单光子雪崩光电二极管,其包括:衬底(1),在所述衬底(1)的中轴线位置上设有短波透光窗口(2),短波透光窗口(2)用于增加,在所述衬底(1)的一侧设有n电极(3),n电极(3)用于与外部电源的一极相接触,衬底(1)的另一侧依次设有腐蚀截止层(4)、InGaAs标准波长吸收层(5)、长波吸收层(6)、渐变层(7)、电荷层(8)、倍增层(9)以及钝化层(13),腐蚀截止层(4)用于在腐蚀透光窗口时对InGaAs标准波长吸收层(5)进行保护,防止腐蚀剂对其产损伤,InGaAs标准波长吸收层(5)用于对900nm-1700nm波段光子的吸收,长波吸收层(6)用于对1700nm-1800nm波段光子的吸收,渐变层(7)用于减少长波吸收层(6)与电荷层(8)之间晶格的不连续,电荷层(8)用于调整倍增层(9)的电场强度,倍增层(9)用于载流子的雪崩碰撞离化,以及钝化层(13)用于保护器件表面,在所述倍增层(9)内设有阶梯型PN结(10),阶梯型PN结(10)用于产生耗尽区,在所述倍增层(9)另一侧设有p电极(12)和钝化层(13),p电极(12)用于与外部电源的另一极相接触。
进一步的,所述p电极(12)、阶梯型PN结(10)以及透光窗口(2)三者处于同一中心轴线上,且径向尺寸基本一致,直径为10μm~100μm。
进一步的,所述短波透射窗口(2),直径为10μm~100μm,用于避免衬底(1)对760nm-900nm波段光子的吸收,并使之在穿透腐蚀截止层(4)之后,直接入射到InGaAs标准波长吸收层(5),从而产生光生载流子,然后在电场的作用下发生雪崩并被收集。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
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H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的





