[发明专利]六方相硒化铟晶体及其在二阶非线性光学上的应用在审
申请号: | 201910087615.5 | 申请日: | 2019-01-29 |
公开(公告)号: | CN109629005A | 公开(公告)日: | 2019-04-16 |
发明(设计)人: | 郭胜平;孙宗栋;迟洋 | 申请(专利权)人: | 扬州大学 |
主分类号: | C30B29/46 | 分类号: | C30B29/46;C30B9/12;G02F1/355 |
代理公司: | 南京理工大学专利中心 32203 | 代理人: | 邹伟红 |
地址: | 225009 *** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 硒化铟 二阶非线性光学 六方相 非线性光学性能 应用 中远红外波段 高温固相法 抗激光损伤 倍频效应 晶胞参数 晶体粉末 六方晶系 相位匹配 重要器件 激光器 空间群 探测器 单晶 激光 | ||
本发明公开了一种六方相硒化铟晶体及其在二阶非线性光学上的应用,化学式为In2Se3,分子量为466.52,其单晶属于六方晶系,空间群为
技术领域
本发明涉及一种非线性光学晶体六方相In2Se3、合成方法及其用途,属于光学晶体材料技术领域。
背景技术
二阶非线性光学晶体因其实现激光频率转换可调,成为激光器的重要部件。按照其应用波段主要分为深紫外区、紫外可见近红外区和中远红外区的非线性光学晶体材料。目前已经商业化的非线性光学晶体材料主要有:KDP (KH2PO4)、KTP (KTiOPO4)、BBO (
发明内容
本发明的目的在于提供一种六方相硒化铟晶体及其在二阶非线性光学上的应用。
本发明制备的硒化铟晶体,化学式为In2Se3,分子量为466.52,其单晶属于六方晶系,空间群为
本发明提供了六方相In2Se3的合成方法,主要步骤:
S1,将氧化铟、硼粉和硫粉按1 : 2 : 3比例称量;
S2,添加助熔剂,其添加量与反应物的总质量比为1:1~ 1:10;
S3,将物料充分混合研磨压片后,真空下,在850~1000℃煅烧反应48小时以上,以4~6℃/小时的速度降至室温,洗涤,干燥后得到纯相的In2Se3晶体。
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