[发明专利]光致抗蚀剂用酚醛树脂组合物及光致抗蚀剂组合物

说明书

一种光致抗蚀剂用酚醛树脂组合物，其特征在于，以(A)与(B)的质量比成为5～95：95～5的量包含通式(1)所表示的酚醛清漆型酚醛树脂(A)和结构中包含亚芳基骨架及萘骨架中的至少一者的酚醛清漆型酚醛树脂(B)。(通式(1)中，R₁表示氢或碳原子数为1以上且8以下的直链状或支链状的烷基，可以分别相同或不同。其中，R₁中的至少一个为碳原子数为1以上且8以下的直链状或支链状的烷基。p为1以上且3以下，可以分别相同或不同。q为1以上且3以下，可以分别相同或不同。其中，p+q≤4。n表示0以上的整数。)

技术领域

本发明涉及光致抗蚀剂用酚醛树脂组合物及包含光致抗蚀剂用酚醛树脂组合物的光致抗蚀剂组合物。

背景技术

近年来，集成电路半导体的电路图案的线宽随着集成度的高密度化而一直在寻求微细化。另外，液晶显示元件等也同样地线宽变细，成为微细化的倾向。在显示器面板的大型化、低成本化进展的过程中，需要能够在大型基板上以简便的工序稳定地形成布线的技术。

另外，在以往半导体领域使用的光刻法技术中，在将抗蚀剂膜图案化后通过湿式蚀刻法、或干式蚀刻法进行布线形成的工序正在普及，有在液晶显示元件的制造工序中也应用该技术的趋势。

伴随于此，对于光致抗蚀剂用树脂材料的要求性能也高度化并且多样化，需要高感度、高残膜率、高析像度等高显影性和进而湿式蚀刻耐性及干式蚀刻耐性这样的蚀刻耐性优异。

作为光致抗蚀剂用途中最广泛使用的酚醛树脂，可列举出甲酚酚醛清漆型酚醛树脂(例如专利文献1)。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开平2-55359号公报

发明内容

发明所要解决的课题

然而，专利文献1中记载的那样的甲酚酚醛清漆型酚醛树脂不能够应对上述的高度化并且多样化进展的最近的市场要求性能，蚀刻耐性(也可以称为耐蚀刻性)也不充分。

于是，本发明的目的在于提供具有高感度、高残膜率、高析像度等高显影性、进而蚀刻耐性优异的光致抗蚀剂用酚醛树脂组合物及光致抗蚀剂组合物。

用于解决课题的手段

本发明人们为了解决上述课题进行了深入研究，结果发现，使用了将特定的通式所表示的酚醛清漆型酚醛树脂(A)与树脂骨架中包含亚芳基骨架或萘骨架的特定的结构的酚醛清漆型酚醛树脂(B)进行聚合物共混(polymer blend)而得到的光致抗蚀剂用酚醛树脂组合物的光致抗蚀剂组合物的高感度、高残膜率、高析像度等显影性优异，并且蚀刻耐性优异，从而完成了本发明。

即，本发明涉及以下的事项。

1.涉及一种光致抗蚀剂用酚醛树脂组合物，其以(A)与(B)的质量比成为5～95：95～5的量包含下述通式(1)所表示的酚醛清漆型酚醛树脂(A)和结构中包含亚芳基骨架及萘骨架中的至少一者的酚醛清漆型酚醛树脂(B)。

[化学式1]

(通式(1)中，R₁表示氢或碳原子数为1以上且8以下的直链状或支链状的烷基，可以分别相同或不同。其中，R₁中的至少一个为碳原子数为1以上且8以下的直链状或支链状的烷基。p为1以上且3以下，可以分别相同或不同。q为1以上且3以下，可以分别相同或不同。其中，p+q≤4。n表示0以上的整数。)

2.涉及上述1.所述的光致抗蚀剂用酚醛树脂组合物，其中，酚醛清漆型酚醛树脂(B)在结构中包含下述通式(4)所表示的单元。

[化学式2]