[发明专利]半导体检查装置

说明书

检查系统(1)具备：光源(33)；镜(40b)；检流计镜(44a、44b)；壳体(32)，其在内部保持镜(40b)与检流计镜(44a、44b)，且具有用于安装光学元件的安装部(46)；及控制部(21a)，其控制检流计镜(44a、44b)的偏转角；控制部(21a)以在通过检流计镜(44a、44b)及镜(40b)的第1光路(L1)与通过检流计镜(44a、44b)及安装部(46)的第2光路(L2)之间切换与半导体器件(D)光学连接的光路的方式控制偏转角，且以切换为第1光路(L1)时的偏转角与切换为第2光路(L2)时的偏转角不重复的方式控制偏转角。

技术领域

本发明涉及一种检查半导体器件的半导体检查装置。

背景技术

一直以来，使用一边施加测试信号一边检查半导体器件的装置。例如，在下述专利文献1中已知有具备检流计镜、2条光纤、及可与它们光学地结合的多光纤转盘的装置，一方的光纤与激光扫描模块(以下称为“LSM”)光学地结合，另一方的光纤光学连接于单光子检测器。在这样的装置中，可切换地执行LSM所进行的半导体器件的检查、及单光子检测器所进行的发光测量。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：美国专利2009/0295414号公报

发明内容

发明所要解决的问题

在上述的现有的检查半导体器件的装置中，期望在各光学元件的各个中设定最佳的光学系统。即，当在光学元件中共用光学系统时，有各光学元件中的光路的空间精度降低的倾向。

实施方式的目的在于提供一种半导体检查装置。

解决问题的技术手段

本发明的实施方式是一种半导体检查装置。半导体检查装置是检查半导体器件的半导体检查装置，具备：第1光源，其产生照射于半导体器件的光；导光元件，其与第1光源光学连接；一对检流计镜，其设置于可经由导光元件而与第1光源光学连接的位置；壳体，其在内部保持导光元件与一对检流计镜，且具有设置于可与一对检流计镜光学连接的位置的用于安装光学元件的第1安装部；及控制部，其控制一对检流计镜的偏转角；控制部以在通过一对检流计镜及导光元件的第1光路与通过一对检流计镜及第1安装部的第2光路之间切换与半导体器件光学连接的光路的方式控制偏转角，且以切换为第1光路时的偏转角与切换为第2光路时的偏转角不重复的方式控制偏转角。

发明的效果

根据实施方式的半导体检查装置，通过提高多个光学元件中的光路的空间精度而能够高精度地检查半导体器件。

附图说明

图1是第1实施方式所涉及的检查系统的构成图。

图2是显示在图1的光学装置31A中切换为第1检查系统的状态下的结构及第1光路的图。

图3是显示在图1的光学装置31A中切换为第2检查系统的状态下的结构及第2光路的图。

图4是显示由图1的计算机21的控制部21a控制的一对检流计镜44a、44b的偏转角的变更范围的图。

图5是显示第2实施方式所涉及的光学装置31B的结构的图。

图6是显示第3实施方式所涉及的光学装置31C的结构的图。

图7是显示第4实施方式所涉及的光学装置31D的结构的图。

图8是显示由第4实施方式所涉及的计算机21的控制部21a控制的一对检流计镜44a、44b的偏转角的变更范围的图。

图9是显示第4实施方式所涉及的光学装置31E的结构的图。

图10是显示变形例所涉及的光学装置31F的结构的图。