[实用新型]计时盒及离子注入机传片系统有效

专利信息
申请号: 201821134963.0 申请日: 2018-07-17
公开(公告)号: CN208589420U 公开(公告)日: 2019-03-08
发明(设计)人: 李东平;马龙 申请(专利权)人: 吉林华微电子股份有限公司
主分类号: H01L21/67 分类号: H01L21/67;H01L21/677;H01J37/32
代理公司: 北京超凡志成知识产权代理事务所(普通合伙) 11371 代理人: 唐维虎
地址: 132013 吉*** 国省代码: 吉林;22
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摘要:
搜索关键词: 离子注入机 计时装置 压力开关 转换接头 计时 传片系统 控制气路 硅片 半导体元器件 气体压力信号 本实用新型 输入端 监控 触发 单筐 离子 生产
【说明书】:

本实用新型提供了一种计时盒及离子注入机传片系统,涉及半导体元器件生产的技术领域,包括箱体,以及安装于箱体中的计时装置、第一压力开关和第一转换接头;计时装置和第一压力开关形成第一回路,第一回路用于控制所述计时装置的开始与停止;第一转换接头连接在第一压力开关的输入端;第一转换接头用于连接离子注入机的第一控制气路。通过第一控制气路产生的气体压力信号,触发第一压力开关,使第一回路对硅片的离子注入时间进行计时,因此计时装置能够监控单筐硅片注入时间的变化,增强了对离子注入机异常的监控,提高了产品的质量和降低产品的废品率。

技术领域

本实用新型涉及半导体元器件生产领域,尤其是涉及一种计时盒及离子注入机传片系统。

背景技术

在半导体元器件离子注入行业中,离子注入机作为半导体离子掺杂工艺线的关键设备,对设备自动化提出了更高的要求。剂量控制器的稳定性是产品质量得到保证的重要因素之一,而其监控手段主要来源于注入单片时间变化,当剂量一定与束流稳定时,注入单片时间也是相对稳定的。若剂量控制器出现不稳定状态,操作人员未能及时注意到,硅片表面离子会因此产生偏差,而导致废品产生。

CF3000型离子注入机是一种中束流离子注入机,由于生产年代较早,设备运行时间长,电子元器件的老化异常变得越发明显,且无有效的监控的手段,影响设备运行状态的稳定性。在实际生产活动中,操作人员的疏忽和间隔性巡查不易识别计量控制器运行状态,不能及早发现并制止质量事故的发生。

为保证经过离子注入后的产品质量,传统监控离子注入异常的手段主要是增加操作人员的巡查频次,靠操作人员的经验来判断单片注入时间是否异常,大大增加管控风险,无法有效保证成品率。

实用新型内容

有鉴于此,本实用新型的目的在于提供一种计时盒及离子注入机传片系统,以增强对离子注入机异常的监控,提高产品的质量和降低产品的废品率。

第一方面,本实用新型实施例提供了一种计时盒,应用于离子注入机传片系统,包括:箱体,以及安装于所述箱体中的计时装置、第一压力开关和第一转换接头;

所述计时装置和所述第一压力开关形成第一回路,所述第一回路用于控制所述计时装置的开始与停止;

所述第一转换接头连接在所述第一压力开关的输入端;

所述第一转换接头用于连接离子注入机的第一控制气路。

结合第一方面,本实用新型实施例提供了第一方面的第一种可能的实施方式,其中,所述计时盒还包括安装于所述箱体中的第一继电器、第二继电器、第二压力开关和第二转换接头;

所述第一继电器、所述第二继电器和所述第二压力开关串联并接入电源,形成第二回路;

所述第二转换接头连接在所述第二压力开关的输入端;

所述第二转换接头用于连接离子注入机的第二控制气路。

结合第一方面,本实用新型实施例提供了第一方面的第二种可能的实施方式,其中,所述计时装置包括:公共端口和复位端口;

所述第一继电器常开触点、所述第二继电器常闭触点串联在所述复位端口与所述公共端口之间,形成第三回路;

所述第二回路和所述第三回路用于控制所述计时装置的复位。

结合第一方面,本实用新型实施例提供了第一方面的第三种可能的实施方式,其中,所述计时装置还包括暂停端口;

所述暂停端口连接所述第一压力开关的一端,所述公共端口连接所述第一压力开关的另一端。

结合第一方面,本实用新型实施例提供了第一方面的第四种可能的实施方式,其中,所述计时装置还包括第一电源端口和第二电源端口;

所述第一电源端口用于通过熔断器连接电源的一端;

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