[实用新型]发光二极管晶圆的减薄结构有效

专利信息
申请号: 201821095121.9 申请日: 2018-07-11
公开(公告)号: CN208489173U 公开(公告)日: 2019-02-12
发明(设计)人: 闫本贺 申请(专利权)人: 深圳市丰颜光电有限公司
主分类号: H01L21/67 分类号: H01L21/67;H01L21/683;H01L33/00
代理公司: 北京科亿知识产权代理事务所(普通合伙) 11350 代理人: 汤东凤
地址: 518129 广东省深圳市龙岗*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 圆形通孔 晶圆 放置架 放置台 本实用新型 发光二极管 减薄结构 晶圆表面 安装架 放置座 卡槽 转轴 电机 接触式固定 物理性损伤 上端 固定座 上表面 支撑架 负压 减小 扇叶 打磨 连通 穿过 流动
【说明书】:

实用新型公开了发光二极管晶圆的减薄结构,包括放置台和晶圆,所述放置台的上表面通过四个支撑架共同固定连接有安装架,所述安装架上设有打磨结构,所述放置台的内部开设有第一圆形通孔,所述第一圆形通孔上固定连接有放置架,且放置架上开设有第五圆形通孔,所述放置架上固定连接有电机,所述电机通过转轴固定连接有扇叶,所述放置台上固定连接有放置座,所述放置座上开设有卡槽和第四圆形通孔,且第四圆形通孔和卡槽相互连通,所述转轴的上端穿过第四圆形通孔并固定连接有固定座。优点在于:本实用新型采用空气的流动所形成的负压对晶圆进行固定,不通过与晶圆表面接触进行固定,减小晶圆表面因接触式固定而产生的物理性损伤。

技术领域

本实用新型涉及晶圆加工工艺技术领域,尤其涉及发光二极管晶圆的减薄结构。

背景技术

发光二极管它是半导体二极管的一种,可以把电能转化成光能,内部零件中包含晶圆;晶圆是指硅半导体集成电路制作所用的硅晶圆,由于其形状为圆形,故称为晶圆。

由于制造工艺的要求,对晶圆的尺寸精度、几何精度、表面洁净度以及表面微晶格结构提出很高要求,因此在几百道工艺流程中,不可采用较薄的晶圆,只能采用一定厚度的晶圆在工艺过程中传递、流片,通常在集成电路封装前,需要对晶圆背面多余的基体材料去除一定的厚度,这一工艺过程称之为晶圆背面减薄工艺,对应装备就是晶圆减薄机。

晶圆减薄机上设有磨砂轮,通过磨砂轮对晶圆表面进行打磨,在打磨前需要对晶圆进行固定,现有的固定方式是通过压针将晶圆压紧在固定座上,但是由于晶圆的精度要求高,现有的压紧固定方式很容易对晶圆产生物理性损伤,造成晶圆的浪费。

实用新型内容

本实用新型的目的是为了解决现有技术中晶圆的精度要求高,现有的压紧固定方式很容易对晶圆产生物理性损伤,造成晶圆的浪费问题,而提出的发光二极管晶圆的减薄结构。

为了实现上述目的,本实用新型采用了如下技术方案:

发光二极管晶圆的减薄结构,包括放置台和晶圆,所述放置台的上表面通过四个支撑架共同固定连接有安装架,所述安装架上设有打磨结构,所述放置台的内部开设有第一圆形通孔,所述第一圆形通孔上固定连接有放置架,且放置架上开设有第五圆形通孔,所述放置架上固定连接有电机,所述电机通过转轴固定连接有扇叶,所述放置台上固定连接有放置座,所述放置座上开设有卡槽和第四圆形通孔,且第四圆形通孔和卡槽相互连通,所述转轴的上端穿过第四圆形通孔并固定连接有固定座。

在上述的发光二极管晶圆的减薄结构中,所述打磨结构包含双轴气缸、伸缩杆和磨砂轮组成,所述安装架的上表面安装有双轴气缸,所述双轴气缸上设有两个伸缩杆,两个所述伸缩杆的下端均贯穿安装架并共同固定连接有磨砂轮。

在上述的发光二极管晶圆的减薄结构中,所述固定座的下表面开设有安装槽,且转轴的上端固定在安装槽上,所述固定座上固定连接有凸块,所述固定座的上表面开设有放置槽,且晶圆位于放置槽上。

在上述的发光二极管晶圆的减薄结构中,所述放置槽的内壁上黏贴有海绵环。

在上述的发光二极管晶圆的减薄结构中,所述放置座上开设有多个第二圆形通孔,所述固定座的下表面开设有多个第三圆形通孔。

在上述的发光二极管晶圆的减薄结构中,相邻两个所述支撑架之间固定连接有加强杆。

与现有的技术相比,本实用新型优点在于:

1:扇叶的转动会形成风,此过程会使得放置台上方的上方空气产生一个负压,利用空气的负压对晶圆产生一个竖直方向上的压力,进而对晶圆在竖直方向上进行固定。

2:转轴转动通过固定座带动晶圆进行转动,先通过双轴气缸控制伸缩杆的伸缩,进而控制磨砂轮所处的高度,需要对晶圆进行打磨时,先使得磨砂轮与晶圆接触,在通过晶圆的转动实现打磨。

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