[实用新型]用于镀膜的承载托盘、硅片承载装置及硅片传输系统

权利要求书

1.一种用于镀膜的承载托盘，其特征在于，包括：

盖板，所述盖板设有贯通的第一沉积窗口，且所述第一沉积窗口的纵截面为矩形；

底板，所述底板设有贯通的第二沉积窗口，所述第二沉积窗口的开口尺寸大于所述第一沉积窗口，且在所述第二沉积窗口的内壁上设有用于承载硅片的承托部；

所述盖板与所述底板通过连接件配合。

2.根据权利要求1所述的承载托盘，其特征在于，所述承托部位于所述第二沉积窗口的内壁的中部。

3.根据权利要求1所述的承载托盘，其特征在于，所述承托部位于所述第二沉积窗口的内壁的底部。

4.根据权利要求1所述的承载托盘，其特征在于，在所述盖板上设有定位销，且在所述底板上设有与所述定位销配合的定位孔。

5.根据权利要求1所述的承载托盘，其特征在于，所述连接件包括磁吸装置、螺接装置和锁扣装置中的至少一种。

6.根据权利要求1所述的承载托盘，其特征在于，所述底板与所述承托部一体成型。

7.根据权利要求1～6任一项所述的承载托盘，其特征在于，所述盖板和所述底板的材质为石墨或碳纤维或铝合金或不锈钢。

8.根据权利要求1～6任一项所述的承载托盘，其特征在于，所述第二沉积窗口的各相邻内壁上的承托部相互连接。

9.根据权利要求8所述的承载托盘，其特征在于，所述承托部为沿所述第二沉积窗口的内壁的垂直方向设置的凸块。

10.根据权利要求1～6任一项所述的承载托盘，其特征在于，所述承托部包括多个独立的承托件。

11.根据权利要求10所述的承载托盘，其特征在于，各相邻所述承托件的间距相等。

12.一种硅片承载装置，包括载板，其特征在于，还包括权利要求1～11任一项所述的承载托盘，所述承载托盘放置于所述载板上，且所述底板与所述载板相接。

13.根据权利要求12所述的硅片承载装置，其特征在于，放置在所述载板上的多个所述承载托盘呈矩阵排列。

14.一种硅片传输系统，包括传输装置，其特征在于，还包括权利要求1～11任一项所述的承载托盘，所述传输装置用于传输所述承载托盘。

15.一种硅片传输系统，包括传输装置，其特征在于，还包括权利要求12或13所述的硅片承载装置，所述传输装置用于传输所述硅片承载装置。