[实用新型]一种硅片清洗用周转盘

说明书

本实用新型涉及硅片清洗设备技术领域，且公开了一种硅片清洗用周转盘，包括底座，所述底座的上表面中部开设有电机槽，所述电机槽内固定连接有电机，所述电机槽的上方固定连接有防护框，所述电机的输出端贯穿防护框并延伸至防护框的上方与转轴固定连接，所述转轴的表面中部贯穿有旋转杆，所述旋转杆远离转轴的一端固定连接有转盘，所述转盘的上表面活动连接有周转盘外身，所述周转盘外身内壁的中部固定连接有限位缓冲柱，所述限位缓冲柱包括支撑杆、限位块、第一橡胶垫和第二橡胶垫，所述支撑杆的上表面固定连接限位块，所述限位块的一侧固定连接有第一橡胶垫。该硅片清洗用周转盘，具备摆放方便，清洗简便和防破碎等优点。

技术领域

本实用新型涉及硅片清洗设备技术领域，具体为一种硅片清洗用周转盘。

背景技术

目前，硅片清洗周转盘是硅片清洗过程中用来暂时存放脱胶后硅片的辅助工具。现有的硅片清洗周转盘子为长方形塑料盘，使用时将塑料盘子中放满水，然后直接将脱胶后的硅片竖直放入盘中，并将硅片的一面斜靠在塑料盘边沿内侧，硅片与塑料盘边沿内侧呈线接触，这种结构堆叠硅片数量少还能使用，若堆叠的硅片数量较多，硅片叠在一起产生的压力较大，作用在最底下紧靠塑料盘边沿内侧的硅片上，容易造成硅片碎裂。同时由于塑料盘底部比较光滑，斜靠的硅片容易滑倒，从而使得硅片沉入塑料盘底部而难以取出，且容易产生碎片且清洗不便。

实用新型内容

(一)解决的技术问题

针对现有技术的不足，本实用新型提供了一种硅片清洗用周转盘，具备摆放方便，清洗简便和防破碎等优点，解决了上述背景技术中所提出的问题。

(二)技术方案

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种硅片清洗用周转盘，包括底座，所述底座的上表面中部开设有电机槽，所述电机槽内固定连接有电机，所述电机槽的上方固定连接有防护框，所述电机的输出端贯穿防护框并延伸至防护框的上方与转轴固定连接，所述转轴的表面中部贯穿有旋转杆，所述旋转杆远离转轴的一端固定连接有转盘，所述转盘的上表面活动连接有周转盘外身，所述周转盘外身内壁的中部固定连接有限位缓冲柱，所述限位缓冲柱包括支撑杆、限位块、第一橡胶垫和第二橡胶垫，所述支撑杆的上表面固定连接限位块，所述限位块的一侧固定连接有第一橡胶垫，所述限位块的另一侧固定连接有第二橡胶垫，所述周转盘外身的两侧均固定连接有把手。

优选的，所述底座的下表面固定连接有减震垫。

优选的，所述把手的表面中部套装有防滑套，所述防滑套的外表面开设有防滑纹。

优选的，所述限位缓冲柱的数量为六个，且六个所述限位缓冲柱两两间距相等。

优选的，所述周转盘外身内部的下表面开设有漏水口。

优选的，所述限位块的内部设置有缓冲弹簧，且缓冲弹簧的两端分别与第一橡胶垫和第二橡胶垫搭接。

(三)有益效果

与现有技术相比，本实用新型提供了一种硅片清洗用周转盘，具备以下有益效果：

1、该硅片清洗用周转盘，通过电机、转轴、旋转杆、转盘和周转盘外身的设置，电机带动转轴转动，进而带动旋转杆和转盘转动，从而使得周转盘外身进行旋转，使得硅片在清洗后通过电机转动将硅片进行甩干，同时清洗时旋转，可使得清水的清洗角度更加全面，清洗更加便捷。

2、该硅片清洗用周转盘，通过限位缓冲柱的设置，限位块能有效起到限位的作用，第一橡胶垫和第二橡胶垫能起到保护硅片的效果，防止硅片在清洗过程中受到挤压而破碎，通过缓冲弹簧的设置使得硅片受到的冲击大大的减小，从而达到保护的目的。

附图说明

图1为本实用新型结构示意图；

图2为本实用新型俯视结构示意图；