[实用新型]一种硅片清洗用周转盘有效
| 申请号： | 201820562768.1 | 申请日： | 2018-04-19 |
| 公开（公告）号： | CN208062037U | 公开（公告）日： | 2018-11-06 |
| 发明（设计）人： | 陈忠海 | 申请（专利权）人： | 苏州德瑞姆超声科技有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/677 | 分类号： | H01L21/677;H01L21/67;H01L21/68 |
| 代理公司： | 苏州凯谦巨邦专利代理事务所(普通合伙) 32303 | 代理人： | 丁剑 |
| 地址： | 215600 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 周转盘 硅片清洗 电机槽 防护框 上表面 限位块 橡胶垫 转轴 旋转杆 支撑杆 外身 转盘 底座 电机 硅片清洗设备 本实用新型 活动连接有 限位缓冲柱 防破碎 缓冲柱 内固定 输出端 贯穿 内壁 清洗 摆放 延伸 | ||
1.一种硅片清洗用周转盘，包括底座(1)，其特征在于：所述底座(1)的上表面中部开设有电机槽(2)，所述电机槽(2)内固定连接有电机(3)，所述电机槽(2)的上方固定连接有防护框(4)，所述电机(3)的输出端贯穿防护框(4)并延伸至防护框(4)的上方与转轴(5)固定连接，所述转轴(5)的表面中部贯穿有旋转杆(6)，所述旋转杆(6)远离转轴(5)的一端固定连接有转盘(7)，所述转盘(7)的上表面活动连接有周转盘外身(8)，所述周转盘外身(8)内壁的中部固定连接有限位缓冲柱(9)，所述限位缓冲柱(9)包括支撑杆(901)、限位块(902)、第一橡胶垫(903)和第二橡胶垫(904)，所述支撑杆(901)的上表面固定连接限位块(902)，所述限位块(902)的一侧固定连接有第一橡胶垫(903)，所述限位块(902)的另一侧固定连接有第二橡胶垫(904)，所述周转盘外身(8)的两侧均固定连接有把手(10)。
2.根据权利要求1所述的一种硅片清洗用周转盘，其特征在于：所述底座(1)的下表面固定连接有减震垫(11)。
3.根据权利要求1所述的一种硅片清洗用周转盘，其特征在于：所述把手(10)的表面中部套装有防滑套(12)，所述防滑套(12)的外表面开设有防滑纹。
4.根据权利要求1所述的一种硅片清洗用周转盘，其特征在于：所述限位缓冲柱(9)的数量为六个，且六个所述限位缓冲柱(9)两两间距相等。
5.根据权利要求1所述的一种硅片清洗用周转盘，其特征在于：所述周转盘外身(8)内部的下表面开设有漏水口(13)。
6.根据权利要求1所述的一种硅片清洗用周转盘，其特征在于：所述限位块(902)的内部设置有缓冲弹簧(905)，且缓冲弹簧(905)的两端分别与第一橡胶垫(903)和第二橡胶垫(904)搭接。
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H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
