[发明专利]基板支撑装置以及包括该基板支撑装置的基板清洁设备

说明书

本公开提供了一种基板支撑装置以及包括该基板支撑装置的基板清洁设备，该基板支撑装置包括：支撑件，其上可装载基板；转子，旋转支撑件；以及振荡器，在垂直于基板的表面的方向上使基板振荡，其中基板根据基板的自然频率或基板上的颗粒的自然频率振荡。

技术领域

实施方式涉及一种基板支撑装置(也被称为，用于基板的支撑装置)以及包括该基板支撑装置的基板清洁设备。

背景技术

基板清洁操作可以在半导体器件制造工艺中进行，例如在制造具有电路图案形成在其上的掩模、晶片等的工艺中。

发明内容

实施方式可以通过提供一种用于基板的支撑装置来实现，该支撑装置包括：支撑件，其上可装载基板；转子，旋转支撑件；以及振荡器，在垂直于基板的表面的方向上使基板振荡，其中基板根据基板的自然频率或基板上的颗粒的自然频率振荡。

实施方式可以通过提供一种基板清洁设备来实现，该基板清洁设备包括：基板支撑装置，基板可支撑在该基板支撑装置上；清洁室，提供其中容纳基板支撑装置的空间；以及清洁溶液喷嘴，朝向基板喷射清洁溶液，其中基板支撑装置包括：支撑件，其上可装载基板；转子，旋转支撑件；以及振荡器，根据基板的自然频率或基板上的颗粒的自然频率在垂直于基板的表面的方向上使基板振荡。

实施方式可以通过提供一种基板清洁设备来实现，该基板清洁设备包括：基板支撑装置，基板可支撑在该基板支撑装置上；清洁室，提供其中容纳基板支撑装置的空间；以及兆声波装置(megasonic device)，朝向基板提供包括微气穴(micro-cavitation)的清洁溶液，其中基板支撑装置包括：支撑件，其上可装载基板；转子，旋转支撑件；以及振荡器，根据基板的自然频率或基板上的颗粒的自然频率在垂直于基板的表面的方向上使基板振荡。

附图说明

通过参照附图详细描述示范性实施方式，各特征对于本领域技术人员将变得明显，附图中：

图1示出根据一示范性实施方式的基板清洁设备的侧剖视图；

图2至图5的部分(a)示出根据一示范性实施方式的基板支撑装置的侧剖视图，图2至图5的部分(b)示出根据一示范性实施方式的基板支撑装置的俯视图；

图6示出根据一示范性实施方式的固定器的侧剖视图；

图7示出一视图，其简要地示出根据一示范性实施方式在振荡期间基板和颗粒的运动；

图8示出曲线图，其示出根据一示范性实施方式的随频率变化的振荡的振幅；

图9示出当共振频率的振荡被施加到根据示范性实施方式的基板时基板的弯曲率的视图；以及

图10示出根据一示范性实施方式的基板清洁设备的侧剖视图。

具体实施方式

图1示出根据一示范性实施方式的基板清洁设备的剖视图。

参照图1，根据一示范性实施方式的基板清洁设备可以包括基板支撑装置100、壳体200、清洁溶液喷嘴400和清洁室300。

基板支撑装置100可以支撑基板W，并可以包括支撑件110、转子120、振荡器130和固定器140。

基板W可以是在制造工艺中的掩模或晶片。基板W可以具有圆形平面形状。在一实施中，基板W可以是石英基板并可以包括硅氧化物(SiO₂)。

微电路图案可以形成在基板W的表面上。微电路图案可以形成为垂直于基板W。例如，微电路图案可以形成在基板W的主表面上(例如，使得微电路图案可以在垂直于或正交于基板W的主表面的平面图中是可见的)。