[发明专利]基板支撑装置以及包括该基板支撑装置的基板清洁设备

权利要求书

1.一种用于基板的支撑装置，所述支撑装置包括：

支撑件，所述基板可装载在该支撑件上；

转子，旋转所述支撑件；以及

振荡器，在垂直于所述基板的表面的方向上使所述基板振荡，

其中所述基板根据所述基板的自然频率或者所述基板上的颗粒的自然频率振荡。

2.如权利要求1所述的支撑装置，其中：

所述自然频率的共振频率f₀由下面的等式1定义，

所述基板以所述共振频率的0.5倍至所述共振频率的1.5倍的共振频带振荡，

[等式1]

共振频率f₀＝1/2π·√(k/m)，并且

在等式1中，k是指所述基板或所述基板上的所述颗粒的弹性常数，并且m是指所述基板或所述基板上的所述颗粒的质量。

3.如权利要求2所述的支撑装置，其中所述基板以所述共振频率振荡。

4.如权利要求1所述的支撑装置，其中：

所述基板包括SiO₂，并且

所述基板以7.7kHz至23.1kHz的频带振荡。

5.如权利要求4所述的支撑装置，其中所述基板以15.4kHz的频率振荡。

6.如权利要求1所述的支撑装置，其中：

所述基板上的所述颗粒包括SiO₂，并且

所述基板以0.085kHz至0.255kHz的频带振荡。

7.如权利要求6所述的支撑装置，其中所述基板以0.17kHz的频率振荡。

8.如权利要求1所述的支撑装置，其中：

所述转子关于旋转轴旋转所述支撑件，所述旋转轴与所述基板的中心垂直地重合，并且

所述振荡器的中心与所述旋转轴垂直地重合。

9.如权利要求8所述的支撑装置，其中：

所述支撑件设置在所述转子的一个表面上，并且

所述振荡器设置在所述转子的另一个表面上。

10.如权利要求8所述的支撑装置，其中：

所述支撑件设置在所述转子的一个表面上，并且

所述振荡器设置在所述支撑件的一个表面上。

11.如权利要求1所述的支撑装置，其中：

所述振荡器包括多个压电元件，并且

所述多个压电元件沿着所述支撑件的周边以等距离的间隔布置。

12.如权利要求1所述的支撑装置，其中：

所述振荡器包括至少一对压电元件，并且

所述至少一对压电元件彼此面对而使所述支撑件的中心插置在其间。

13.如权利要求1所述的支撑装置，其中所述基板是其上形成电路图案的掩模或晶片。

14.如权利要求1所述的支撑装置，还包括固定器，该固定器形成在所述支撑件的边缘上并包括其中可插入所述基板的边缘的凹入部分。

15.如权利要求1所述的支撑装置，其中所述支撑件是静电吸盘，该静电吸盘包括电极和围绕所述电极的绝缘体。