[发明专利]一种公共层掩膜板及其制备方法有效
| 申请号: | 201811271057.X | 申请日: | 2018-10-29 |
| 公开(公告)号: | CN109402557B | 公开(公告)日: | 2021-01-22 |
| 发明(设计)人: | 张浩瀚;白珊珊 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号: | C23C14/04 | 分类号: | C23C14/04;C23C14/24;H01L51/00;H01L51/56 |
| 代理公司: | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人: | 郭润湘 |
| 地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 公共 层掩膜板 及其 制备 方法 | ||
本发明涉及显示技术领域,公开了一种公共层掩膜板及其制备方法,该公共层掩膜板中,包括掩膜板本体,掩膜板本体包括使用时朝向基板的第一表面以及背离基板的第二表面,掩膜板本体上形成有至少一个开口,掩膜板本体在开口的周边区域处形成有翘曲部,且翘曲部沿指向开口的方向向由第二表面指向第一表面的方向翘曲。上述公共层掩膜板中,通过该公共层掩膜板与基板配合使用,即使用时掩膜板本体与阻隔凸起间存在一定距离,且翘曲部向基板方向翘曲减小了开口周边区与基板间的距离,实现了在保证防止刮伤阻隔凸起的前提下降低了蒸镀阴影的效果,有效提高了产品的良率。
技术领域
本发明涉及显示技术领域,特别涉及一种公共层掩膜板及其制备方法。
背景技术
如今显示面板市场开始逐渐转向OLED技术,OLED焕发出巨大的市场潜力,但由于受到某些关键技术的制约,OLED良率爬升阶段有很大的挑战,现阶段低良率成为限制我国OLED技术大规模量产的重要问题。
OLED制造的蒸镀工艺中,由于蒸镀阴影过大会造成很多不良,目前为了防止在蒸镀过程中公共层掩膜板与基板贴合时刮伤基板阻隔凸起,公共层掩膜板在制作时会在开口周围基板面制作半刻蚀区域,防止与基板阻隔凸起直接接触造成损伤。但是由于公共层掩膜板厚度较大,会造成蒸镀阴影过大,使OLED面板的边框较大。
发明内容
本发明提供了一种公共层掩膜板及其制备方法,该公共层掩膜板中,通过使用时掩膜板本体与阻隔凸起间存在一定距离,且翘曲部向基板方向翘曲减小了开口周边区与基板间的距离,实现了在保证防止刮伤阻隔凸起的前提下降低了蒸镀阴影的效果,有效提高了产品的良率。
为达到上述目的,本发明提供以下技术方案:
一种公共层掩膜板,包括掩膜板本体,所述掩膜板本体包括使用时朝向基板的第一表面以及背离所述基板的第二表面,所述掩膜板本体上形成有至少一个开口,所述掩膜板本体在所述开口的周边区域处形成有翘曲部,且所述翘曲部沿指向所述开口的方向向由所述第二表面指向所述第一表面的方向翘曲。
上述公共层掩膜板中,掩膜板本体上形成有至少一个开口,每个开口的周边区域处形成有翘曲部,且翘曲部指向开口的一端由掩膜板的第二表面指向第一表面的方向翘曲,当该公共层掩膜板使用时,掩膜板本体的第一表面与基板配合,且第一表面与基板的阻隔凸起间存在一定的间距,以防止掩膜板本体与阻隔凸起间产生碰触,对阻隔凸起造成刮伤,同时,翘曲部指向开口的一端朝向基板方向翘曲,减小了掩膜板本体的开口周边区域距离基板的距离,从而有效减小了蒸镀阴影,提高了产品的良率;
因此,通过该公共层掩膜板与基板配合使用,即使用时掩膜板本体与阻隔凸起间存在一定距离,且翘曲部向基板方向翘曲减小了开口周边区与基板间的距离,实现了在保证防止刮伤阻隔凸起的前提下降低了蒸镀阴影的效果,有效提高了产品的良率。
优选地,所述翘曲部包括刻蚀形成的半刻蚀部,所述半刻蚀部背离所述基板的方向的表面与所述第二表面共面。
优选地,所述半刻蚀部朝向所述基板方向的表面上设有多聚物材料层,所述多聚物材料层背离所述半刻蚀部的表面与所述第一表面共面。
优选地,所述半刻蚀部朝向所述多聚物材料层的表面上形成有多个凸起。
优选地,所述凸起为圆柱体、圆台或梯形结构。
优选地,所述半刻蚀部朝向所述多聚物材料层的表面上形成有多个凹陷。
优选地,所述凹陷为圆柱体、圆台或梯形结构。
优选地,所述掩膜板本体由因瓦合金制成。
本发明还提供了一种公共层掩膜板的制备方法,包括:
将掩膜板本体进行图案化处理形成至少一个开口;
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